[發明專利]故障檢測系統以及故障檢測方法有效
| 申請號: | 201410478109.6 | 申請日: | 2014-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN104465437B | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發明(設計)人: | 田中雅人 | 申請(專利權)人: | 阿自倍爾株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所31210 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本東京都千代田*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 故障 檢測 系統 以及 方法 | ||
1.一種故障檢測系統,其特征在于,具有:
操作量計算單元,所述操作量計算單元基于設定值SP和控制量PV計算出操作量MV并輸出;
設定值操作單元,所述設定值操作單元用于根據操作者的操作對所述設定值SP進行設定變更;
頻率信息處理單元,所述頻率信息處理單元對示出利用該設定值操作單元進行的設定值SP的變更的頻率的操作頻率信息進行總計并保持;
重置單元,所述重置單元在從外部接收到重置信號時,將保持在所述頻率信息處理單元中的操作頻率信息重置為零;
警報輸出單元,所述警報輸出單元在所述操作頻率信息的值超過預先規定的閾值時,輸出警報;
頻率信息取得單元,所述頻率信息取得單元以預先規定的間隔取得保持在所述頻率信息處理單元中的操作頻率信息;
重置信號發送單元,所述重置信號發送單元在所述操作頻率信息的取得后將所述重置信號發送至所述重置單元;
頻率信息履歷存儲單元,所述頻率信息履歷存儲單元對由所述頻率信息取得單元取得的操作頻率信息進行存儲;以及
判定單元,所述判定單元在最新的操作頻率信息的值相對于存儲在該頻率信息履歷存儲單元中的過去的任意的操作頻率信息的值的增加量超過預先規定的閾值時,輸出警報。
2.如權利要求1所記載的故障檢測系統,其特征在于,
所述操作頻率信息是以下幾項中的至少一項:
變更頻率信息,所述變更頻率信息示出所述設定值SP的變更的頻率;
再變更頻率信息,所述再變更頻率信息示出在所述設定值SP的變更進行后的經過時間在規定時間以下時、再次利用所述設定值操作單元進行設定值SP的變更的頻率;以及反方向變更頻率信息,所述反方向變更頻率信息示出在所述設定值SP的變更進行后的經過時間在規定時間以下時、再次利用所述設定值操作單元進行設定值SP的變更的頻率,且該設定值SP的變更相對于此前的設定值SP的變更是反方向的變更。
3.如權利要求1所記載的故障檢測系統,其特征在于,
所述操作頻率信息是以下幾項中的至少一項:
再變更頻率信息,所述再變更頻率信息示出在所述設定值SP的變更進行后所述控制量PV達到變更后的設定值SP之前、再次利用所述設定值操作單元進行設定值SP的變更的頻率;以及
反方向變更頻率信息,所述反方向變更頻率信息示出在所述設定值SP的變更進行后所述控制量PV達到變更后的設定值SP之前、再次利用所述設定值操作單元進行設定值SP的變更的頻率,且該設定值SP的變更相對于此前的設定值SP的變更是反方向的變更。
4.一種故障檢測系統,其特征在于,具有:
操作量計算單元,所述操作量計算單元基于設定值SP和控制量PV計算出操作量MV并輸出;
設定值操作單元,所述設定值操作單元用于根據操作者的操作對所述設定值SP進行設定變更;
累計信息處理單元,所述累計信息處理單元對示出該設定值操作單元變更設定值SP的變更幅度的累計的操作累計信息進行總計并保持;以及
重置單元,所述重置單元在從外部接收到重置信號時,將保持在所述累計信息處理單元中的操作累計信息重置為零;
警報輸出單元,所述警報輸出單元在所述操作累計信息的值超過預先規定的閾值時,輸出警報;
累計信息取得單元,所述累計信息取得單元以預先規定的間隔取得保持在所述累計信息處理單元中的操作累計信息;
重置信號發送單元,所述重置信號發送單元在所述操作累計信息的取得后將所述重置信號發送至所述重置單元;
累計信息履歷存儲單元,所述累計信息履歷存儲單元對由所述累計信息取得單元取得的操作累計信息進行存儲;以及
判定單元,所述判定單元在最新的操作累計信息的值相對于存儲在該累計信息履歷存儲單元中的過去的任意的操作累計信息的值的增加量超過預先規定的閾值時,輸出警報。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





