[發明專利]一種氣體二氧化氯軟式內鏡消毒機

有效

• 申請號: 201410457870.1
• 申請日: 2014-09-10
• 公開（公告）號: CN104189930B
• 公開（公告）日: 2017-02-15
• 發明（設計）人: 衣穎;麻樹人;祁建城;吳金輝;閃萬軍;郝麗梅
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍軍事醫學科學院衛生裝備研究所;中國人民解放軍沈陽軍區總醫院;北京萬杰朗醫療技術有限公司
• 主分類號: A61L2/20
• 分類號: A61L2/20;A61L2/24;A61L101/06
• 代理公司: 天津市三利專利商標代理有限公司12107
• 代理人: 仝林葉

技術領域

本發明涉及一種軟式內鏡消毒機，確切地說是一種用于醫院內鏡室的腸鏡、胃鏡等軟式內鏡高效消毒機。

背景技術

為了避免交叉感染，軟式內鏡在應用于病患前必須經過嚴格消毒，伴隨著內鏡手術需求的激增，其消毒問題也日漸突出。由于軟式內鏡構造精密、材質特殊，多數不耐高溫高壓，宜采用低溫化學消毒方法。

我國普遍采用2％戊二醛進行人工浸泡消毒或滅菌。2％戊二醛抗菌譜廣，對多種細菌有效，但對人的皮膚和粘膜有刺激性，長期困擾著消毒操作人員。鄰苯二甲醛與2％戊二醛相比，具有廣譜、高效、低腐蝕、刺激性小等優點，有替代2％戊二醛的趨勢，但其同樣存在危害消毒操作人員的問題，而且價格較高。酸性氧化電位水具有快速殺滅微生物作用，對呼吸道和皮膚黏膜刺激性輕，但對軟式內鏡有較強的腐蝕。過氧乙酸具有高效、廣譜、作用快速、無有害物質殘留等特點，但對眼睛、皮膚、黏膜和上呼吸道有強烈刺激作用，而且0.2％過氧乙酸只能一次性使用，造成消毒成本較高。

為了避免對消毒操作人員的危害、提高效率，可采用全自動清洗消毒機代替部分人工洗消步驟。奧林巴斯醫療株式會社的自動內鏡清洗消毒機具有顯著代表性，在中國及其它國家擁有多項專利，其中在中國的發明專利ZL200910202990.6表示，可采用氣液二相流的方法去除軟式內鏡內壁的生物膜，具有測漏、清洗、消毒、吹干等功能，可使用過氧乙酸等消毒劑。實用新型專利ZL201220146982.1公開了一種與上述類似的全自動內窺鏡清洗消毒機，采用酸性氧化電位水為消毒液，對內鏡的外壁和內孔進行高水平消毒，自動進行水洗－酶洗－水洗－消毒－水洗－酒精沖洗等步驟。但是這種消毒機一次最多只能消毒2條軟式內鏡，因為消毒艙容積更大則意味著需要更多消毒劑，同時帶來外表面相互擠壓不易沖洗的問題。因此上述類型的消毒機平均單條消毒成本較高。

研究表明，氣體二氧化氯幾乎可以殺滅一切微生物，包括細菌繁殖體、細菌芽孢、真菌、分支桿菌和病毒等。二氧化氯沸點為11℃，在室溫下即為氣體，具有良好的穿透和分布特性，非常適用于多孔、狹縫、多表面等復雜結構物品的滅菌。2006年，美國環保署將氣體二氧化氯注冊為滅菌劑。而且氣體二氧化氯被世界衛生組織確認為AI級(最高級)安全的消毒劑。美國環保署測試報告說明，氣體二氧化氯對316不銹鋼、PTFE、PVDF、光學鏡片等材料具有良好的材料兼容性，且不在表面產生粘附。美國ClorDiSys公司已有商業化產品，如SteridoxVP和SteridoxSteamer兩種氣體二氧化氯滅菌器，應用于醫療器械的滅菌，而且對外提供醫療器械滅菌的外包服務。

發明內容

本發明的目的是提供一種采用氣體二氧化氯作為消毒劑的軟式內鏡消毒機，具有一次消毒軟式內鏡數量多、消毒成本低、消毒快速徹底、無腐蝕、無殘留、結構緊湊、操作便捷、消毒過程實時監控、過程參數可追溯等特點。

1.本發明氣體二氧化氯軟式內鏡消毒機,所述消毒機由氣密消毒艙、氣體二氧化氯發生器及注入模塊、氣體二氧化氯吸收模塊、溫度控制模塊、相對濕度控制模塊、壓力控制模塊、消毒灌流回路、烘干回路和自動控制系統組成；

所述氣密消毒艙分別連接氣體二氧化氯發生器及注入模塊、氣體二氧化氯吸收模塊、溫度控制模塊、相對濕度控制模塊、壓力控制模塊、消毒灌流回路、烘干回路和自動控制系統；

所述氣體二氧化氯吸收模塊由氣體二氧化氯吸收管路和新風輸送管路組成；

所述氣體二氧化氯發生器及注入模塊分別連接氣密消毒艙和消毒灌流回路，所述消毒灌流回路包括依次連接的循環泵、氣體二氧化氯濃度傳感器、循環高效過濾器和匯流器，匯流器分別連接多個軟式內鏡灌流接口，每個軟式內鏡灌流接口穿過消毒艙體安裝；

所述氣密消毒艙由消毒艙體和氣密門組成，所述溫度控制模塊由消毒艙體加熱板、消毒艙體溫度傳感器、氣密門加熱板、氣密門溫度傳感器和消毒艙體內溫度傳感器組成，消毒艙體加熱板粘附在消毒艙體外壁周圍，消毒艙體溫度傳感器粘貼在消毒艙體外壁與消毒艙體加熱板之間，氣密門加熱板粘附在氣密門外壁上，氣密門溫度傳感器插入氣密門門體內部，消毒艙體內溫度傳感器插入消毒艙體內部；

所述自動控制系統包括人機界面、PLC模塊、微型打印機、U盤存儲器，PLC模塊分別控制人機界面、微型打印機、氣體二氧化氯發生器及注入模塊、氣體二氧化氯吸收模塊、溫度控制模塊、相對濕度控制模塊、壓力控制模塊、消毒灌流回路和烘干回路，人機界面連接U盤存儲器。

所述氣體二氧化氯發生器及注入模塊由依次連接的氣體二氧化氯發生器、氣體二氧化氯節流閥、氣體二氧化氯注入電磁閥組成。