[發明專利]一種優化晶體硅太陽能電池PN結的方法無效
| 申請號: | 201410449740.3 | 申請日: | 2014-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN104183672A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發明(設計)人: | 徐華浦;蔣方丹;金浩;陳康平 | 申請(專利權)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100 | 代理人: | 吳關炳 |
| 地址: | 314416 浙江省嘉*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 優化 晶體 太陽能電池 pn 方法 | ||
1.一種優化晶體硅太陽能電池PN結的方法,其特征在于,具體步驟如下:
(1)擴散:用于晶體硅太陽能電池制造的單晶或多晶硅片,在對硅片進行表面去損傷和制絨,采用管式擴散爐進行擴散,其方阻控制為60~80?Ω/□;
(2)酸溶液對PN結腐蝕:將擴散后的硅片置于化學清洗機臺中,采用酸性腐蝕液對硅片進行腐蝕,所述的酸性腐蝕液為HNO3、HF和DI水的混合溶液,所述HNO3∶HF∶DI水的體積比為10∶1∶100,?反應時間為20~60s;
(3)PN結堿溶液處理:?由于酸性腐蝕液對硅片進行酸性腐蝕時,表面會產生薄多孔硅層,因此需將酸洗后的硅片置于化學清洗機臺中,采用KOH和DI水的混合溶液對其清洗,所述KOH∶DI水的體積比為5∶100,?反應時間為20~60s;
(4)清洗:最后再用DI水對硅片進行清洗,去除酸性和堿性溶液,其PN結發射區方阻將上升至85~100Ω/□,然后繼續進行刻蝕、PECVD、絲網印刷和燒結測試工藝。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





