[發明專利]薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置

有效

• 申請號: 201410449129.0
• 申請日: 2014-09-04
• 公開（公告）號: CN105460599B
• 公開（公告）日: 2019-07-19
• 發明（設計）人: 王祥慧
• 申請（專利權）人: 沈陽拓荊科技有限公司
• 主分類號: B65G47/90
• 分類號: B65G47/90
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉鋒

本發明是關于一薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置。根據本發明一實施例的基材傳輸裝置包含：設置于一傳輸室的若干機械手臂，及設置于至少一反應室的若干基材工位。其中若干機械手臂與至少一反應室內的基材工位對應，各機械手臂可放置基材至所述至少一反應室內相對應的基材工位或自相對應的基材工位上取走基材。根據本發明實施例的薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置可節省反應室內用于基材工位的回轉機構，在節省成本的同時，可提高設備的穩定性和基材傳輸的效率。

技術領域

本發明涉及薄膜沉積領域，特別是涉及薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置。

背景技術

隨著半導體技術的發展，半導體基材(例如但不限于，晶圓)在越來越多的領域，如集成電路、太陽能、發光二極管、及光波導等被廣泛應用。為半導體基材實施薄膜沉積的薄膜沉積設備通常包含前端模塊、裝載室、基材傳輸室及反應室。待實施薄膜沉積的基材從前端模塊經裝載室傳輸到基材傳輸室再傳輸至反應室進行薄膜沉積。基材傳輸室內可設有雙層雙機械手臂，每次可傳輸兩片基材至反應室。對應基材傳輸室，反應室內工位呈環形均勻分布，且工位可旋轉以便基材傳輸室的機械手臂可將基材放置相應的空工位上或自工位上取走基材。為保證已放置的基材不掉落，反應室內工位旋轉較慢，需較長的時間才能在所有工位上放滿或取完基材，基材傳輸效率較低。

因此，盡管薄膜沉積設備由單反應室改為多反應室可在一定程度上提高產能，然半導體基材的大規模生產仍受制于基材傳輸效率。

發明內容

本發明的目的之一在于提供一薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置，該薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置可不依賴于基材工位的回轉而同時實施多片基材傳輸。

本發明的一實施例提供一用于薄膜沉積設備的基材傳輸裝置，其包含：設置于一傳輸室的若干機械手臂，及設置于至少一反應室的若干基材工位。其中若干機械手臂與至少一反應室內的基材工位對應，以將基材放置至所述至少一反應室內相對應的基材工位或自相對應的基材工位上取走基材。

在本發明的一實施例中，所述至少一反應室內的基材工位呈陣列分布，該陣列是，例如但不限于，2×2或2×3陣列。所述至少一反應室內的基材工位中與傳輸室距離相同的基材工位組成一基材工位組，若干機械手臂中對應于該基材工位組的機械手臂組成一機械手臂組，該機械手臂組連接同一回轉機構。對應于距離傳輸室較遠的基材工位組的機械手臂組的機械手臂相較于對應于距離傳輸室較遠的基材工位組的機械手臂組的機械手臂更長。

在另一實施例中，若干機械手臂呈上下多層分布，不同機械手臂組位于不同層。不同回轉機構可獨立旋轉和伸展。所述至少一反應室內的基材工位沒有連接回轉機構。該傳輸裝置可進一步包含一處理器，該處理器控制若干機械手臂放置基材至所述至少一反應室內相對應的基材工位或自相對應的基材工位上取走基材的順序，及當存在多個反應室時，控制所述若干機械手臂在不同反應室中傳送基材的順序。

在本發明又一實施例中，基材傳輸裝置所傳輸的基材是晶圓。

本發明的實施例還提供包含上述基材傳輸裝置的薄膜沉積設備。

根據本發明實施例的薄膜沉積設備及其基材傳輸裝置可節省反應室內用于基材工位的回轉機構，在節省成本的同時，可提高設備的穩定性和基材傳輸的效率。

附圖說明

圖1所示是根據本發明一實施例的薄膜沉積設備的俯視圖，其中基材傳輸裝置處于待工作狀態

圖2所示是圖1中的薄膜沉積設備的俯視圖，其中基材傳輸裝置的第一機械手臂組處于取/放操作狀態

圖3所示是圖1中的薄膜沉積設備的俯視圖，其中基材傳輸裝置的第二機械手臂組處于取/放操作狀態

圖4所示是根據本發明另一實施例的薄膜沉積設備的俯視圖，其中基材傳輸裝置處于待工作狀態