[發明專利]一種解離劑、解離工藝、柔性顯示器件制備及其制備工藝有效
| 申請號: | 201410448020.5 | 申請日: | 2014-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN104201096B | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發明(設計)人: | 徐苗;李洪濛;許志平;王磊;鄒建華;陶洪;彭俊彪 | 申請(專利權)人: | 廣州新視界光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350 | 代理人: | 趙蕊紅 |
| 地址: | 510730 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 解離 工藝 柔性 顯示 器件 制備 及其 | ||
1.一種柔性顯示器件的制備工藝,其特征在于:首先在基板上制備柔性薄膜襯底,再在柔性薄膜襯底上制備薄膜器件形成初體,最后通過還原性解離劑將初體的柔性薄膜襯底與基板解離得到成品柔性顯示器件,所述解離劑為草酸、鹽酸、硫化氫、硫酸亞鐵、亞硫酸鈉、氯化亞錫、硼氫化鉀或者硼氫化鈉中的任意一種溶液或者任意兩種以上組成的混合溶液;
柔性薄膜襯底與基板解離具體是:將柔性薄膜襯底的邊緣揭起,然后一邊在柔性薄膜襯底與基板之間施予解離劑,一邊將柔性薄膜襯底從基板上撕開,直到柔性薄膜襯底與基板完全分離;具體通過噴射、噴霧或者涂覆方式施予解離劑;
或者通過霧氣擴散方式將柔性薄膜襯底與基板解離,具體是將初體置入內部充滿氣化或者霧化解離劑反應腔,然后取出并將柔性薄膜襯底與基板分開;
或者通過浸泡方式將柔性薄膜襯底與基板解離,具體是將基板、基板與柔性薄膜襯底接觸的部分浸泡于解離劑溶液中,然后取出將柔性薄膜襯底與基板解離。
2.一種柔性TFT驅動背板的制備工藝,其特征在于,制備工藝如下:
首先選擇玻璃基板作為硬質的基板,在制備柔性薄膜襯底之前,對玻璃基板進行清洗;
(1)在基板上制備聚酰亞胺材料的柔性薄膜襯底,在硬質基板上采用先刮涂再旋涂的方式涂覆聚酰氨酸溶液,涂覆完畢之后,將硬質基板送入氮氣氛的烘箱內進行固化成膜處理得到聚酰亞胺材料的柔性薄膜襯底;
(2)在聚酰亞胺薄膜襯底上制備TFT驅動電路;
(3)使用草酸作為還原性解離劑,具體采用濃度為5%的草酸水溶液,持續在襯底和硬質基板之間的內表面噴灑霧狀草酸溶液,并同時持續用機械方式輔助柔性薄膜襯底與基板分離,得到柔性TFT驅動背板。
3.一種柔性AMOLED面板的制備工藝,該面板含TFT驅動背板以及OLED發光器件,其特征在于,具體制備工藝如下:
首先選擇單晶硅硬質基板,在制備襯底之前,先對基板進行清洗;
(1)在基板上制備聚對苯二甲酸乙二醇酯襯底,具體的,在硬質基板上采用先刮涂再旋涂的方式涂覆苯二甲酸乙二醇酯溶液,涂覆完畢之后,將硬質基板送入氮氣氛的烘箱內進行固化成膜處理得到聚對苯二甲酸乙二醇酯材質的襯底;
(2)在聚對苯二甲酸乙二醇酯襯底上制備TFT驅動電路和OLED器件;
(3)使用濃度為3%的鹽酸溶液充當還原性解離劑,將基板放入反應腔內,反應腔充滿霧化的鹽酸溶液,放置15分鐘后,取出,撕下襯底得到柔性AMOLED面板。
4.一種柔性AMOLED面板的制備工藝,該面板含TFT驅動背板以及OLED發光器件,其特征在于,具體制備工藝如下:
首先選擇玻璃材料的基板,在制備襯底之前,先對基板進行清洗;
(1)制備聚萘二甲酸乙二酯襯底,具體的,在硬質基板上采用先刮涂再旋涂的方式涂覆聚萘二甲酸乙二酯溶液,涂覆完畢之后,將硬質基板送入N2 氣氛的烘箱內進行固化成膜處理得到聚萘二甲酸乙二酯材質的襯底;
(2)在聚萘二甲酸乙二酯襯底上制備TFT驅動電路和OLED器件;
(3)使用濃度為10%的次氯酸溶液作為解離劑,將基板浸泡入解離劑中,其中襯底和基板接觸的部分也浸泡其中,浸泡2兩分鐘后取出,撕下襯底得到柔性AMOLED面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





