[發明專利]精確定位前層缺陷的聚焦離子束制樣方法有效
| 申請號： | 201410443663.0 | 申請日： | 2014-09-02 |
| 公開（公告）號： | CN104198247B | 公開（公告）日： | 2017-04-05 |
| 發明（設計）人： | 范榮偉;陳宏璘;龍吟;顧曉芳;劉祚鉞 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28;G01N23/22 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 精確 定位 缺陷 聚焦 離子束 方法 | ||
【說明書】：
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