[發明專利]三維金屬光柵的制作方法有效
| 申請號： | 201410421763.3 | 申請日： | 2014-08-25 |
| 公開（公告）號： | CN105372735B | 公開（公告）日： | 2017-12-05 |
| 發明（設計）人： | 曾春紅;付凱;李曉偉;林文魁;陸增天;張寶順 | 申請（專利權）人： | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304 | 代理人： | 孫偉峰,武岑飛 |
| 地址： | 215123 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 三維 金屬 光柵 制作方法 | ||
1.一種三維金屬光柵的制作方法，其特征在于，包括步驟：
在外延片上形成間隔排列的多個擋體；
在所述擋體之間形成三維金屬結構；
將所述擋體剝離去除，以在所述外延片上形成三維金屬光柵；
所述“在外延片上形成間隔排列的多個擋體”具體包括步驟：
在外延片上涂覆第一光刻膠層；
在所述第一光刻膠層上涂覆第二光刻膠層；
對所述第二光刻膠層和所述第一光刻膠層進行曝光、顯影，以形成間隔排列的多個擋體；
其中，所述擋體包括未被曝光、顯影的第二光刻膠層的部分及未被曝光、顯影的第一光刻膠層的部分。
2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多個擋體等間隔排列。
3.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，在所述擋體中，所述未被曝光、顯影的第二光刻膠層的部分的寬度大于所述未被曝光、顯影的第一光刻膠層的部分的寬度。
4.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，在步驟“在所述第一光刻膠層上涂覆第二光刻膠層”之前，以預定溫度對所述第一光刻膠層進行烘干。
5.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，在步驟“在外延片上涂覆第一光刻膠層”之前，在外延片上涂覆增粘劑。
6.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一光刻膠層采用LOR10A光刻膠，所述第二光刻膠層采用正性光刻膠材料。
7.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述“將所述擋體剝離去除”具體包括：
利用丙酮溶液將所述擋體的未被曝光、顯影的第二光刻膠層的部分去除剝離；
利用乙醇及去離子水對去除掉未被曝光、顯影的第二光刻膠層的部分的擋體進行清洗；
利用預定濃度的正性光刻膠顯影液將所述擋體的未被曝光、顯影的第一光刻膠層的部分去除剝離。
8.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述擋體的高度大于所述三維金屬結構的高度。
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