[發明專利]用于控制能量的設備和方法

有效

• 申請號: 201410404532.1
• 申請日: 2009-11-10
• 公開（公告）號: CN104202860A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: 亞歷山大·比爾錢斯基;艾蘭·本-什穆爾
• 申請（專利權）人: 高知有限公司
• 主分類號: H05B6/64
• 分類號: H05B6/64;H05B6/02
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 周靖;鄭霞

1.一種通過一系列頻率使用微波或UHF輻射來輻射負載的方法，包括：

選擇要向所述負載發射的頻率；

根據損耗信息針對每個選擇的頻率確定發射持續時間；以及

輻射所述負載，以使來自所述選擇的頻率的每個頻率被發射被確定的所述持續時間，其中，對經允許在所述負載中損耗的功率電平施加上限。

2.如權利要求1所述的方法，其中，調節針對每個頻率的所述持續時間，以使在給定的頻率處在所述負載中損耗期望量的能量。

3.如權利要求1或2所述的方法，其中，所述頻率在所述負載的輻射期間被動態地選擇。

4.如前述權利要求中的任一項所述的方法，還包括：

測量產生的反射的且耦合的頻譜；以及

根據所述反射的且耦合的頻譜來推斷所述負載的所述損耗信息。

5.如權利要求4所述的方法，其中，所述反射的且耦合的頻譜指示針對每個發射頻率的所述損耗信息。

6.如前述權利要求中的任一項所述的方法，其中，輻射所述負載是以分別針對所發射的頻率中的每一個的最大功率發射電平來執行的。

7.如前述權利要求中的任一項所述的方法，其中，所述輻射所述負載是以固定的功率發射電平來執行的。

8.如前述權利要求中的任一項所述的方法，其中，由多個所述發射的頻率損耗基本相同量的能量。

9.如前述權利要求中的任一項所述的方法，其中，調節針對多個頻率的所述發射持續時間，以使針對具有相對較低的能量損耗率的頻率確定更長的發射持續時間。

10.一種用于輻射負載(12)的裝置(10)，所述裝置包括：

至少一個能量饋源(14)，其用于以多個頻率向腔(11)發射微波或UHF輻射能量；以及

控制器(17)，其被配置為：

選擇要向所述負載(12)發射的頻率；

根據損耗信息針對每個選擇的頻率確定發射持續時間；以及

引發對所述負載(12)的輻射，以使來自所述選擇的頻率的每個頻率被發射被確定的所述持續時間，其中，所述控制器(17)被配置為對經允許在所述負載中損耗的功率電平施加上限。