[發明專利]曝光方法及曝光機

有效

• 申請號: 201410400540.9
• 申請日: 2014-08-14
• 公開（公告）號: CN104166315B
• 公開（公告）日: 2017-05-17
• 發明（設計）人: 宋江江
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司11372
• 代理人: 朱繪,張文娟

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，具體地說，涉及一種曝光方法及曝光機。

背景技術

隨著顯示技術的發展，液晶顯示器已經成為最為常見的顯示裝置。

在液晶顯示器的制造過程中，會多次利用構圖工藝。具體為，在涂有光刻膠的基板上方放置掩膜板，然后對利用曝光機基板進行曝光。基于掩膜板的圖案，光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分(正性光刻膠)，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分(負性光刻膠)，從而使光刻膠形成所需的圖形。

但是，現有的曝光機的曝光精度普遍較低，也就是曝光機所能達到的精度尺寸不夠小，使光刻膠所形成的圖形的尺寸較大。此外，被曝光的基板上難免會有異物，這些異物高出基板及光刻膠表面，使掩膜板與光刻膠之間的距離不能足夠接近，這也是限制曝光精度的主要原因之一。因此，現有技術中存在曝光精度較低的問題，難以滿足當前液晶顯示器高精度結構的需求。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光方法及曝光機，以達到更高的曝光精度。

本發明提供一種曝光方法，包括：

將掩膜板放置于待曝光的基板上方的第一位置；

對所述基板上的光刻膠的第一區域進行曝光；

將所述掩膜板移動至所述基板上方的第二位置；

對所述基板上的光刻膠的第二區域進行曝光，使所述光刻膠的第一區域與第二區域的重疊部分被曝光兩次。

優選的，所述第二位置與所述第一位置之間的位移差，小于該曝光方法中所使用的曝光機的精度尺寸。

優選的，所述光刻膠為負性光刻膠；

該曝光方法還包括：

保留所述光刻膠被曝光兩次的部分，去除所述光刻膠被曝光一次的部分和未被曝光的部分。

優選的，所述基板為彩膜基板，所述光刻膠為彩膜層。

優選的，兩次曝光的曝光量均在25mJ以下。

本發明還提供一種曝光機，包括：

光源；

基臺，用于放置被曝光的基板；

載臺，用于放置掩膜板；

驅動器，用于驅動所述載臺，使所述載臺平行于所述基臺移動。

優選的，所述驅動器為電機或液壓機。

優選的，所述曝光機的精度尺寸為8μm。

本發明帶來了以下有益效果：本發明提供的曝光方法中，分別對光刻膠的第一區域和第二區域進行兩次曝光，每次曝光可以選用較低的曝光量。第一區域與第二區域的重疊部分被曝光兩次，能夠達到飽和曝光，而被曝光一次的部分曝光不足，經過顯影之后光刻膠形成的圖形只有被曝光兩次的部分被去除(正性光刻膠)或被保留(負性光刻膠)。

因為該被曝光兩次的部分為第一區域與第二區域的重疊部分，其尺寸取決于掩膜板的第一位置與第二位置的位移差，所以可以通過調節掩膜板的第一位置和第二位置，使該被曝光兩次的部分為任意尺寸，而不受曝光機本身的曝光精度的限制。因此，本發明提供的技術方案，能夠在曝光機的曝光精度較低的情況下，實現更高的曝光精度，從而能夠滿足液晶顯示器高精度結構的需求。

本發明的其它特征和優點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本發明而了解。本發明的目的和其他優點可通過在說明書、權利要求書以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要的附圖做簡單的介紹：

圖1是本發明實施例一提供的曝光方法的示意圖之一；

圖2是本發明實施例一提供的曝光方法的示意圖之二；

圖3是本發明實施例一提供的曝光機的示意圖；

圖4是本發明實施例二提供的曝光方法的示意圖。

具體實施方式

以下將結合附圖及實施例來詳細說明本發明的實施方式，借此對本發明如何應用技術手段來解決技術問題，并達成技術效果的實現過程能充分理解并據以實施。需要說明的是，只要不構成沖突，本發明中的各個實施例以及各實施例中的各個特征可以相互結合，所形成的技術方案均在本發明的保護范圍之內。

實施例一：

本發明實施例提供的一種曝光方法。本實施例中，利用該曝光方法制造彩膜基板上的彩膜層。

該曝光方法包括：

S1：將掩膜板放置于待曝光的基板上方的第一位置。