[發(fā)明專利]一種用于陰影成像的自發(fā)光消除裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410398564.5 | 申請日： | 2014-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN104730723A | 公開（公告）日： | 2015-06-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 宋強;黃潔;柯發(fā)偉;謝愛民;王宗浩;焦德志;柳森 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國空氣動力研究與發(fā)展中心超高速空氣動力研究所 |
| 主分類號： | G02B27/28 | 分類號： | G02B27/28 |
| 代理公司： | 國防專利服務(wù)中心 11043 | 代理人： | 江亞平 |
| 地址： | 621000 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 陰影 成像 發(fā)光 消除 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種用于陰影成像的自發(fā)光消除裝置，用于陰影成像系統(tǒng)(1)，其特征在于，包括：偏振消光裝置(2)，采用兩組偏振方向不一致的低通消光片，用于對激光及帶有偏振性的光束能量進行衰減；偏振濾光裝置(4)，由一組偏振濾光片組成，用于濾除激光照明光束波長之外的所有非偏振光束，其中，偏振消光裝置(2)與物鏡(3)前端連接，物鏡(3)后端與偏振濾光裝置(4)前端連接，偏振濾光裝置后端與數(shù)字相機(5)連接。
2.如權(quán)利要求1所述一種用于陰影成像的自發(fā)光消除裝置，其特征在于，所述的低通消光片的消光透過率為15％～20％。
3.如權(quán)利要求1或2所述一種用于陰影成像的自發(fā)光消除裝置，其特征在于，所述的濾光片為窄帶濾光片，其透過帶寬范圍為激光光源的脈寬范圍。
4.如權(quán)利要求3所述一種用于陰影成像的自發(fā)光消除裝置，其特征在于，濾光片透過帶寬范圍為1nm～3nm，透過率大于85％。
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