[發明專利]制造聚酰亞胺基底的方法及制造顯示裝置的方法有效
| 申請號: | 201410390615.X | 申請日: | 2014-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN104465334B | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發明(設計)人: | 哈伊克·哈洽圖安;具賢祐;金善浩;金泰雄 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 劉燦強;譚昌馳 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 聚酰亞胺 基底 方法 顯示裝置 | ||
提供了一種制造聚酰亞胺基底的方法及制造顯示裝置的方法。將酸溶液提供到玻璃基底,以去除包括在玻璃基底中的第一陽離子,并將包括聚酰胺酸的源溶液提供到玻璃基底。然后,使聚酰胺酸固化,以在玻璃基底上形成聚酰亞胺基底,并將聚酰亞胺基底與玻璃基底分離。
技術領域
本公開涉及一種制造聚酰亞胺基底的方法和一種利用該聚酰亞胺基底制造顯示裝置的方法,更具體地說,涉及這樣一種制造聚酰亞胺基底的方法和一種利用該聚酰亞胺基底制造顯示裝置的方法,其中,通過制造聚酰亞胺基底的方法在玻璃基底上形成聚酰亞胺基底。
背景技術
在顯示裝置之中正在發展包括具有柔性性能的柔性基底的柔性顯示裝置。柔性顯示裝置可以根據用戶的需要而柔性地彎曲,以提高使用時顯示裝置的可攜帶性和便利性。柔性基底可包括例如具有薄膜形狀的塑料基底和金屬基底。具有良好耐熱性的聚酰亞胺基底通常被用作塑料基底。
當利用柔性基底制造柔性顯示裝置時,為了確保柔性基底的平坦性,在諸如玻璃基底的載體基底上設置柔性基底。然后,對柔性基底執行各種制造工藝并且在柔性基底上形成像素。將包括在其上形成的像素的柔性基底與載體基底分離。
發明內容
本發明的示例性實施例提供一種制造聚酰亞胺基底的方法,通過該方法可容易地制造聚酰亞胺基底。
本發明的示例性實施例還提供一種使用聚酰亞胺基底來制造顯示裝置的方法,通過該方法可容易地制造顯示裝置。
本發明的示例性實施例提供一種制造聚酰亞胺基底的方法。
將酸溶液提供到玻璃基底,以去除包括在玻璃基底中的第一陽離子,并將包括聚酰胺酸的源溶液提供到玻璃基底。然后,使聚酰胺酸固化,以在玻璃基底上形成聚酰亞胺基底,并將聚酰亞胺基底與玻璃基底分離。
在本發明的示例性實施例中,提供一種制造顯示裝置的方法。
在玻璃基底上形成聚酰亞胺基底,并在聚酰亞胺基底上形成多個像素。將包括在其上形成的多個像素的聚酰亞胺基底與玻璃基底分離。
如下形成聚酰亞胺基底。將酸溶液提供到玻璃基底,以去除包括在玻璃基底中的第一陽離子,并將包括聚酰胺酸的源溶液提供到玻璃基底。然后,使聚酰胺酸固化。
附圖說明
從以下結合附圖的詳細描述能夠更詳細地理解本發明的示例性實施例,在附圖中:
圖1A至圖1F是示出根據本發明實施例的制造聚酰亞胺基底的方法的圖;
圖2A是圖1B中的第一部分在執行瀝濾工藝之前的放大圖;
圖2B是圖1B中的第一部分在完成瀝濾工藝之后的放大圖;
圖2C是示出在完成瀝濾工藝之后包括在玻璃基底中的第一陽離子的數量相對于玻璃基底的深度的曲線圖;
圖3是圖1C中的第二部分的放大圖;
圖4A和圖4B是示出根據本發明實施例的玻璃基底的表面處理的方法的圖;
圖5A和圖5B是示出根據本發明實施例的制造顯示裝置的方法的圖。
具體實施方式
在下文中,將參照附圖詳細描述本發明的示例性實施例。以下將參照附圖更加詳細地描述本發明的示例性實施例。然而,本發明的示例性實施例可以以不同的形式來實施并且不應被解釋為限制于這里闡述的示例性實施例。在整個說明書中,同樣的標號表示同樣的元件。而且,在附圖中,為了清晰起見,可以擴大層和區域的尺寸及相對尺寸。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





