[發明專利]V形自動浸釉裝置有效
| 申請號: | 201410376322.6 | 申請日: | 2014-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN104119106A | 公開(公告)日: | 2014-10-29 |
| 發明(設計)人: | 梁康寧;呂昌保;何關勇 | 申請(專利權)人: | 廣西北流市智誠陶瓷自動化科技有限公司 |
| 主分類號: | C04B41/86 | 分類號: | C04B41/86 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 537400 廣西壯族*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 自動 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及日用陶瓷生產設備,特別是自動上釉裝置。
背景技術
在以往的日用陶瓷生產中,各陶瓷廠家因原材料性能的差異或是各種產品外形的限制原因,施釉工序只能采用手工浸釉的工藝方法進行施釉,手工浸釉生產效率低,同時由于在施釉過程中手指接觸坯體,使坯體在施釉后留下手指印,影響坯體的施釉質量。另外,由于釉水中加有多種化工材料,這些化工材料對人體有腐蝕作用,長期手工浸釉對人體有危害。
為了提高生產效率,提高產品質量,改善工人生產環境,降低成本等,技術人員在日用陶瓷的生產技術及生產設備上進行著不斷的改進。在已有的陶瓷生產技術中,針對陶瓷上釉工序的技術文獻有:
1、專利文獻【公開號:CN202373397U】公開了一種“盤形懸式瓷絕緣子瓷泥坯件頭部上釉裝置”,?該裝置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉工位平臺、為瓷泥坯件的外周表面布釉的頭部外周表面浸釉裝置、為瓷泥坯件的內表面布釉的頭部內孔注釉裝置,以及電氣控制柜。該裝置通過將瓷泥坯件“∩”形頭部的倒置安放在旋轉平臺工位上并借助電氣控制旋轉360°進程中經二次延時停頓過程以實現了按步驟連續完成瓷泥坯件頭部外周表面的上釉工序。該裝置自動化程度高,但結構復雜,成本高,并且只能實現對坯件某一局部的上釉而已。
2、專利文獻【公開號:CN1090834】公開了一種“?陶瓷制品的局部表面上釉”,?該實用新型是通過將熔化輻射能施加到所述上釉位置周圍的制品表面上的熔融區域從而延緩所述熔融區域的冷卻以把接近所述熔融區域的所述制品中產生的熱應力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的斷裂應力來實現局部表面上釉。該實用新型主要用于修補釉彩缺陷及用作裝飾,這種方式的上釉能量消耗巨大,不適用大批量生產制造過程。
3、專利文獻【公開號:CN202246453U】公開了“一種上釉裝置”,該裝置主要由加釉罐、穩壓罐、打釉泵三個部分組成。先將釉料添加至加釉罐,通過打釉泵將釉料送入穩壓罐中,再通過出料閥將釉料涂施在膠輥表面以實現上釉過程。該裝置可實現較均勻的上釉過程,這種工藝過程過于繁瑣,生產效率低,其上釉層厚度也受膠輥磨損純度而變化,導致其上釉質量不穩定。
4、專利文獻【公開號:CN202422887U】公開了一種“線路柱式絕緣子上釉裝置”,該裝置包括支撐架、電機和固定坯體的卡盤,電機固定在支撐架上;電機、卡盤和胚體同軸轉動。該裝置可用于電瓷絕緣子生產過程的上釉工序,其卡盤式固定方式增加了胚體與上釉裝置的接觸面積,使得一次上釉的面積減少,影響生產效率。
5、專利文獻【公開號:CN1223926】公開了一種“特別用于瓷磚的旋轉上釉機”,該裝置具有兩個并排靠近設置的滾筒,釉料可推積在其上,第一滾筒的磚片的上表面上作不受阻滯的接觸滾動,從而將釉料轉移到磚片上,而第二滾筒的旋轉方向與第一滾筒相反。該裝置適用于瓷磚的上釉工序,但其對釉水的流變學動力參數要求非常嚴格,若釉水改變或釉水成分不夠均勻即容易造成上釉層的厚度不一致,直接影響成品率。?
6、專利文獻【公開號為CN203187583U】名稱為“日用陶瓷自動上釉裝置”的實用裝置專利中,儲釉筒壁上設有吸釉孔,以便儲釉筒內吸入釉水作為碗底上釉用,在生產過程發現,吸盤機構吸住碗坯往釉池擺動上釉過程中,碗底部接觸釉水的時間比碗表面接觸釉水的時間相對長一些,對于一些吸水性很強的坯體用這種方法上釉,碗底部的釉層厚度明顯比碗表面的厚度大,坯體上釉不合格。
綜上所述,現有的現有上釉裝置主要存在效率不高、上釉質量差、結構復雜、工人勞動強度過大、自動化程度不足等缺陷。
發明內容
本發明的目的在于提供一種全自動化上釉裝置,能夠快速、可靠、安全的完成碗坯上釉過程,最大限度縮短日用陶瓷生產時間,同時克服現有的淋釉設備操作員工數量多、上釉過程存在死角的缺陷,提供了結構簡單、操作便利的流動式自動浸釉機。
本發明通過以下技術方案實現上述目的;?一種V形自動浸釉裝置,?傳送帶一安裝在傳送支架一上,待上釉的碗坯由傳送帶一傳送至A工位,所述傳送支架一的一端附近安裝橫推機構,橫推機構前端為V形導架和釉池,所述V形導架和釉池均放置于地面上,所述V形導架最低點插入釉池當中,以便碗托經過時碗坯能充分浸入釉水,后支架位于V形導架的一端,縱推氣缸和縱向推板均安裝與后支架上端,在前支架與后支架之間的一側為環形轉臺。所述橫推機構包括橫向推板、前支架和橫推氣缸,所述前支架放在地面上,所述前支架上端表面為碗托,橫推氣缸安裝在所述前支架一端側面,所述橫推氣缸活塞連接橫向推板,所述橫向推板沿著前支架移動。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣西北流市智誠陶瓷自動化科技有限公司,未經廣西北流市智誠陶瓷自動化科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410376322.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





