[發(fā)明專利]碗托式自動(dòng)浸釉裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410354733.5
• 申請(qǐng)日: 2014-07-24
• 公開（公告）號(hào): CN104086230A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁康寧;何遷;陳衛(wèi)東;黃秋;張明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣西北流市智誠陶瓷自動(dòng)化科技有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/86
• 分類號(hào): C04B41/86
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及日用陶瓷生產(chǎn)設(shè)備，特別是日用陶瓷自動(dòng)上釉裝置。

背景技術(shù)

在以往的日用陶瓷生產(chǎn)中，各陶瓷廠家因原材料性能的差異或是各種產(chǎn)品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工藝方法進(jìn)行施釉，手工浸釉生產(chǎn)效率低，同時(shí)由于在施釉過程中手指接觸坯體，使坯體在施釉后留下手指印，影響坯體的施釉質(zhì)量。另外，由于釉水中加有多種化工材料，這些化工材料對(duì)人體有腐蝕作用，長期手工浸釉對(duì)人體有危害。

為了提高生產(chǎn)效率，提高產(chǎn)品質(zhì)量，改善工人生產(chǎn)環(huán)境，降低成本等，技術(shù)人員在日用陶瓷的生產(chǎn)技術(shù)及生產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行著不斷的改進(jìn)。在已有的陶瓷生產(chǎn)技術(shù)中，針對(duì)陶瓷上釉工序的技術(shù)文獻(xiàn)有：

1、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)：CN202373397U】公開了一種“盤形懸式瓷絕緣子瓷泥坯件頭部上釉裝置”，?該裝置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉(zhuǎn)工位平臺(tái)、為瓷泥坯件的外周表面布釉的頭部外周表面浸釉裝置、為瓷泥坯件的內(nèi)表面布釉的頭部內(nèi)孔注釉裝置，以及電氣控制柜。該裝置通過將瓷泥坯件“∩”形頭部的倒置安放在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)工位上并借助電氣控制旋轉(zhuǎn)360°進(jìn)程中經(jīng)二次延時(shí)停頓過程以實(shí)現(xiàn)了按步驟連續(xù)完成瓷泥坯件頭部外周表面的上釉工序。該裝置自動(dòng)化程度高，但結(jié)構(gòu)復(fù)雜，成本高，并且只能實(shí)現(xiàn)對(duì)坯件某一局部的上釉而已。

2、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)：CN2647444】公開了一種“上釉機(jī)”。該上釉機(jī)通過將往復(fù)機(jī)構(gòu)及轉(zhuǎn)角機(jī)構(gòu)相組合噴槍機(jī)構(gòu)并以控制器控制的電動(dòng)機(jī)作為動(dòng)力源來實(shí)現(xiàn)上釉，其噴槍機(jī)構(gòu)布置在機(jī)架上，機(jī)架上同時(shí)還布置有工件裝夾機(jī)構(gòu)等。該上釉機(jī)適用于對(duì)有波紋環(huán)的圓柱形工件外表面進(jìn)行上釉處理，不適于異形工件的上釉處理。

3、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)：CN1090834】公開了一種“?陶瓷制品的局部表面上釉”，?該實(shí)用新型是通過將熔化輻射能施加到所述上釉位置周圍的制品表面上的熔融區(qū)域從而延緩所述熔融區(qū)域的冷卻以把接近所述熔融區(qū)域的所述制品中產(chǎn)生的熱應(yīng)力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的斷裂應(yīng)力來實(shí)現(xiàn)局部表面上釉。該實(shí)用新型主要用于修補(bǔ)釉彩缺陷及用作裝飾，這種方式的上釉能量消耗巨大，不適用大批量生產(chǎn)制造過程。

4、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)：CN202246453U】公開了“一種上釉裝置”，該裝置主要由加釉罐、穩(wěn)壓罐、打釉泵三個(gè)部分組成。先將釉料添加至加釉罐，通過打釉泵將釉料送入穩(wěn)壓罐中，再通過出料閥將釉料涂施在膠輥表面以實(shí)現(xiàn)上釉過程。該裝置可實(shí)現(xiàn)較均勻的上釉過程，這種工藝過程過于繁瑣，生產(chǎn)效率低，其上釉層厚度也受膠輥磨損純度而變化，導(dǎo)致其上釉質(zhì)量不穩(wěn)定。

5、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)：CN202422887U】公開了一種“線路柱式絕緣子上釉裝置”，該裝置包括支撐架、電機(jī)和固定坯體的卡盤，電機(jī)固定在支撐架上；電機(jī)、卡盤和胚體同軸轉(zhuǎn)動(dòng)。該裝置可用于電瓷絕緣子生產(chǎn)過程的上釉工序，其卡盤式固定方式增加了胚體與上釉裝置的接觸面積，使得一次上釉的面積減少，影響生產(chǎn)效率。

6、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)：CN1223926】公開了一種“特別用于瓷磚的旋轉(zhuǎn)上釉機(jī)”，該裝置具有兩個(gè)并排靠近設(shè)置的滾筒,釉料可推積在其上,第一滾筒的磚片的上表面上作不受阻滯的接觸滾動(dòng),從而將釉料轉(zhuǎn)移到磚片上,而第二滾筒的旋轉(zhuǎn)方向與第一滾筒相反。該裝置適用于瓷磚的上釉工序，但其對(duì)釉水的流變學(xué)動(dòng)力參數(shù)要求非常嚴(yán)格，若釉水改變或釉水成分不夠均勻即容易造成上釉層的厚度不一致，直接影響成品率。?

7、專利文獻(xiàn)【公開號(hào)為CN203187583U】名稱為“日用陶瓷自動(dòng)上釉裝置”的實(shí)用裝置專利中，儲(chǔ)釉筒壁上設(shè)有吸釉孔，以便儲(chǔ)釉筒內(nèi)吸入釉水作為碗底上釉用，在生產(chǎn)過程發(fā)現(xiàn)，吸盤機(jī)構(gòu)吸住碗坯往釉池?cái)[動(dòng)上釉過程中，碗底部接觸釉水的時(shí)間比碗表面接觸釉水的時(shí)間相對(duì)長一些，對(duì)于一些吸水性很強(qiáng)的坯體用這種方法上釉，碗底部的釉層厚度明顯比碗表面的厚度大，坯體上釉不合格。

綜上所述，現(xiàn)有的現(xiàn)有上釉裝置主要存在效率不高、上釉質(zhì)量差、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、工人勞動(dòng)強(qiáng)度過大、自動(dòng)化程度有待提高等缺陷。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種碗托式自動(dòng)浸釉裝置，用于日用陶瓷生產(chǎn)過程中自動(dòng)上釉工藝步驟，使其能夠解決現(xiàn)有的上釉裝置存在的效率不高、上釉質(zhì)量差、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、工人勞動(dòng)強(qiáng)度過大、自動(dòng)化程度不高的缺陷。