[發明專利]一種含氮化合物在提高鉭拋光速率中的應用

在審

• 申請號: 201410351547.6
• 申請日: 2014-07-23
• 公開（公告）號: CN105297025A
• 公開（公告）日: 2016-02-03
• 發明（設計）人: 荊建芬;高嫄;姚穎;張建;邱騰飛;潘依君
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23F3/06
• 分類號: C23F3/06;C09G1/02
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種含氮化合物在提高鉭拋光速率中的應用，且所述含氮化合物添加入化學機械拋光液中，其特征在于，所述含氮化合物為以下化合物中的一種或多種：含有1～4個氮原子的雜環化合物及其衍生物，以及胺類化合物。

2.如權利要求1所述的應用，其特征在于：所述的含有1～4個氮原子的雜環化合物及其衍生物選自吡啶、嘧啶、哌啶、哌嗪、噻唑、三唑、四唑，以及上述化合物的衍生物中的一種或多種。

3.如權利要求2所述的應用，其特征在于：所述的衍生物為帶巰基和/或羧基和/或氨基的衍生物。

4.如權利要求2所述的應用，其特征在于：所述的含有1～4個氮原子的雜環化合物及其衍生物選自5-羧基-3-氨基-1,2,4三氮唑、2-氨基嘧啶、3-氨基-1,2,4三氮唑、5-巰基-3-氨基-1,2,4三唑、二巰基苯丙噻唑、哌嗪六水、甲基苯丙三氮唑、2,3-二氨基吡啶和1-苯基-5-巰基-四氮唑中的一種或多種。

5.如權利要求1所述的應用，其特征在于：所述的胺類化合物選自二胺、二乙烯三胺和多烯多胺中的一種或多種。

6.如權利要求1所述的應用，其特征在于：所述的含氮有機物的含量為質量百分比0.01～1％。

7.如權利要求6所述的應用，其特征在于：所述的含氮有機物的含量為質量百分比0.1～0.5％。

8.如權利要求1所述的應用，其特征在于：所述化學機械拋光液含有磨料、氧化劑和水，且所述磨料的含量為小于或等于質量百分比15％。

9.如權利要求8所述的應用，其特征在于：所述的磨料為SiO2和/或Al2O3。

10.如權利要求8所述的應用，其特征在于：所述的磨料的含量為質量百分比2～10％。

11.如權利要求8所述的應用，其特征在于：所述的氧化劑為過氧化物和/或過硫化物。

12.如權利要求8所述的應用，其特征在于：所述的氧化劑的含量為質量百分比0.1～10％。

13.如權利要求1所述的應用，其特征在于：所述的拋光液的pH值為2～5。