[發明專利]單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法有效
| 申請號: | 201410348073.X | 申請日: | 2014-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN104173074A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發明(設計)人: | 魏清陽;劉亞強;王石;馬天予;江年銘;劉邁 | 申請(專利權)人: | 北京辛耕普華醫療科技有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 張大威 |
| 地址: | 100084 北京市通州區中關村科*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光子 發射 斷層 成像 系統 幾何 刻度 方法 | ||
1.一種單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,所述單光子發射斷層成像系統包括PET探測器和準直器,所述方法包括以下步驟:
對所述準直器進行測量以獲得所述準直器上針孔或槽縫的幾何參數;
將所述準直器和所述PET探測器組裝成所述單光子發射斷層成像系統;
控制所述準直器運動,以利用所述PET探測器測量所述準直器運動至多個目標位置時的多組本底符合事件;
根據所述多組本底符合事件得到所述準直器在所述單光子發射斷層成像系統中的位置坐標。
2.根據權利要求1所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,控制所述準直器運動,以利用所述PET探測器測量所述準直器運動至多個目標位置時的多組本底符合事件,具體包括:
控制所述準直器移出所述PET探測器的環中,并通過所述PET探測器采集第一預設時間內的第一本底符合事件;
控制所述準直器移入所述PET探測器的環中,并通過所述PET探測器采集第二預設時間內的第二本底符合事件;
控制所述準直器移出至所述PET探測器的環中預設距離,并通過所述PET探測器采集第三預設時間內的第三本底符合事件。
3.根據權利要求1或2所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,利用PET探測器中镥176衰變產生的負電子和級聯的伽馬粒子測量所述多組本底符合事件。
4.根據權利要求1所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,所述根據所述多組本底符合事件得到所述準直器在所述單光子發射斷層成像系統中的位置坐標,具體包括:
將所述多組本底符合事件轉化為正弦圖;
根據所述正弦圖利用濾波反投影算法或迭代重建算法獲得所述準直器的三維衰減圖像;以及
從所述準直器的三維衰減圖像中提取所述準直器在所述單光子發射斷層成像系統中的位置坐標。
或直接將符合事件反投影,獲得反投影圖像;以及從所述準直器的反投影圖像中提取所述準直器在所述單光子發射斷層成像系統中的位置坐標。
5.根據權力要求4所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,還包括:在所述準直器上進行進一步處理,包括粘貼標記物或切槽切縫,以利用所述標記物或所述切槽切縫獲得本底成像,以用于標定所述準直器的幾何參數。
6.根據權利要求1所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,所述準直器上針孔或槽縫的幾何參數包括:所述針孔或槽縫在所述準直器上的位置和張角。
7.根據權利要求1所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,通過如下方式對所述準直器進行測量以獲得所述準直器上針孔或槽縫的幾何參數:機械測量方法、光學測量方法、成像測量方法、電磁測量方法或氣動測量方法。
8.根據權利要求1所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,所述準直器的形狀為環狀、平板狀或多邊形,所述準直器的針孔為圓錐、橢圓錐、圓臺、橢圓臺、多棱錐或多棱臺。
9.根據權利要求8所述的單光子發射斷層成像系統的幾何刻度方法,其特征在于,所述PET探測器為與所述準直器適配的環狀探測器、平板探測器或多邊形探測器。
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