[發(fā)明專(zhuān)利]靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410324581.4
• 申請(qǐng)日: 2014-07-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104062040A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐登峰;許巖;唐娜娜;張旭光;朱煜;穆海華;程嘉;王珂晟
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 北京華卓精科科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01L1/00
• 分類(lèi)號(hào): G01L1/00
• 代理公司: 北京恩赫律師事務(wù)所 11469
• 代理人: 趙文成

1.一種靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，包括真空腔室和與所述真空腔室連接的真空獲取裝置，所述真空腔室內(nèi)設(shè)置有靜電卡盤(pán)基座，所述靜電卡盤(pán)基座上設(shè)置有靜電卡盤(pán)，其特征在于，所述真空腔室內(nèi)在所述靜電卡盤(pán)的下方設(shè)置有至少一個(gè)測(cè)量系統(tǒng)，所述測(cè)量系統(tǒng)包括傳感器基座、壓力傳感器和支撐件，其中：

所述傳感器基座固定在所述真空腔室的底部，所述壓力傳感器安裝在所述傳感器基座上，所述支撐件的下端與所述壓力傳感器相連接，所述支撐件的上端適于支撐晶片。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空腔室的上部中間位置設(shè)置有用于與外部等離子體輸入管道連接的等離子輸入口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述測(cè)量系統(tǒng)為至少3個(gè)，所述測(cè)量系統(tǒng)呈圓周陣列分布于所述靜電卡盤(pán)的下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述支撐件為頂針或者銷(xiāo)，所述靜電卡盤(pán)上有銷(xiāo)孔，所述支撐件的上端穿過(guò)所述銷(xiāo)孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述支撐件的上表面高出所述靜電卡盤(pán)的上表面1-9μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空腔室外部設(shè)置有數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，所述真空腔室上設(shè)置有數(shù)據(jù)傳輸口，所述壓力傳感器的數(shù)據(jù)輸出線通過(guò)所述數(shù)據(jù)傳輸口與所述數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)相連接，所述數(shù)據(jù)傳輸口通過(guò)靜密封件密封。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空腔室的底部設(shè)置有抽氣孔，所述抽氣孔通過(guò)法蘭盤(pán)與所述真空獲取裝置連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空腔室包括腔室底板、腔室殼體和腔室上蓋板，所述腔室底板與所述腔室殼體的下端為一體結(jié)構(gòu)，所述腔室上蓋板與所述腔室殼體的上端通過(guò)螺栓連接，連接處采用O型密封圈進(jìn)行靜密封。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空獲取裝置包括干泵和分子泵，所述干泵和分子泵并聯(lián)連接，通過(guò)管道與所述真空腔室連接。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電卡盤(pán)靜電吸附力的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空腔室的下方設(shè)置有腔室支架，所述真空腔室上設(shè)置有觀察窗。