[發明專利]一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底及其制備方法有效
| 申請號: | 201410322287.X | 申請日: | 2014-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN104103601A | 公開(公告)日: | 2014-10-15 |
| 發明(設計)人: | 王曉靁;劉伯彥;鐘其龍 | 申請(專利權)人: | 廈門潤晶光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/12 | 分類號: | H01L23/12;H01L21/86 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人: | 李寧 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市火炬*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 藍寶石 絕緣 層上覆硅 襯底 及其 制備 方法 | ||
1.一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:是一種硅-藍寶石-硅襯底,即頂層為硅主動層,中間層為藍寶石薄層,底層為硅襯底。
2.如權利要求1所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:硅主動層的厚度為100nm,藍寶石薄層的厚度為150nm,硅襯底的厚度為1mm。
3.如權利要求1所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:硅主動層的厚度為1500nm,藍寶石薄層的厚度為1500nm,硅襯底的厚度為1mm。
4.如權利要求1所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:制備方法步驟如下:
第一步,采用襯底切割技術將拋光藍寶石薄層均勻切下;
第二步,將切下的藍寶石薄層與硅襯底進行熱處理鍵結;
第三步,完成頂層的硅主動層。
5.如權利要求4所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:第一步,采用智能剝離技術,經熱處理后切片分離。
6.如權利要求4所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:第三步,按現有商用工藝進行硅的外延,完成頂層的硅主動層。
7.如權利要求4所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:第三步,在拋光硅襯底切下硅薄層,再將這個硅薄層熱處理鍵結在藍寶石薄層的頂層,完成頂層的硅主動層。
8.如權利要求7所述的一種藍寶石絕緣層上覆硅襯底,其特征在于:第二步和第三步,熱處理鍵結程序在同一個設備中依序處理。
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