[發明專利]形變測量成像系統

有效

• 申請號: 201410320981.8
• 申請日: 2008-02-26
• 公開（公告）號: CN104061873B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: D·伯格;J·高里爾;D·S·古德曼;C·R·尤斯坦尼克
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G01B11/16
• 分類號: G01B11/16;G02B27/28
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 錢慰民

1.一種處理光的系統，所述系統包括：

照明光學子系統，所述照明光學子系統被構造成產生照明光：

雙焦平面成像系統，所述雙焦平面成像系統包括：

分束器，所述分束器被定位成接收來自所述照明光學子系統的所述照明光；

雙折射透鏡，所述雙折射透鏡被定位成接收來自所述分束器的所述照明光的至少一部分；和

雙合物鏡，所述雙合物鏡被定位成接收從所述雙折射透鏡通過的所述照明光，并且所述雙合物鏡被進一步定位成將所述照明光引導到(1)前焦平面，所述前焦平面在樣本基板上，和(2)后焦平面，所述后焦平面位于所述樣本基板和基準基板之間的界面上，

其中，所述前焦平面比所述后焦平面更接近所述雙合物鏡；

所述雙合物鏡被進一步定位成接收從所述前焦平面和所述后焦平面反射的光；

雙折射透鏡被進一步定位成接收從所述雙合物鏡通過的反射光；

所述分束器被進一步定位成接收來自所述雙折射透鏡的所述反射光；其中，所述雙焦平面成像系統進一步包括：

孔徑光闌，所述孔徑光闌被定位成接收從所述分束器通過的所述反射光的至少一部分；

去多路復用器，所述去多路復用器被定位成接收從所述孔徑光闌通過的反射光，所述去多路復用器分離與所述前焦平面和所述后焦平面相對應的反射光；以及

探測裝置，所述探測裝置被定位成在單個像平面上接收經分離的與所述前焦平面和所述后焦平面相對應的反射光。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述去多路復用器被構造成用于實現偏振多路復用；

其中，與所述前焦平面相對應的反射光通過所述雙合物鏡和所述雙折射透鏡，以形成第一偏振光束和第二偏振光束，其中所述第一偏振光束和所述第二偏振光束是具有正交偏振的重合光束；

與所述第二偏振光束相比在所述雙折射透鏡中經受了較高折射率的所述第一偏振光束通過所述去多路復用器到達所述探測裝置，而所述去多路復用器阻止所述第二重合光束；

與所述后焦平面相對應的所述反射光通過所述雙合物鏡和所述雙折射透鏡，以形成第三偏振光束和第四偏振光束，其中所述第三偏振光束和所述第四偏振光束是具有正交偏振的重合光束；并且

與所述第四偏振光束相比在所述雙折射透鏡中經受了較低折射率的所述第三偏振光束通過所述去多路復用器到達所述探測裝置，而所述去多路復用器阻止所述第四偏振光束。

3.如權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述照明光學子系統產生明場反射科勒照明光。

4.如權利要求1－3中任何一項所述的系統，其特征在于，當所述樣本基板被放置在所述基準基板的正面時，反射材料被設置在所述基準基板的背面。

5.如權利要求1－4中任何一項所述的系統，其特征在于，所述探測裝置是CCD相機。

6.如權利要求1－5中任何一項所述的系統，其特征在于，所述分束器是不起偏振片分束器。

7.如權利要求1－6中任何一項所述的系統，其特征在于，還包括用于監控或最小化所述雙焦平面成像系統的角偏差以避免視差效應的裝置。

8.如權利要求1－7中任何一項所述的系統，其特征在于，所述照明光學子系統的數值孔徑大于所述雙焦平面成像系統的數值孔徑。

9.一種用于測量樣本基板相對基準基板的相對位置的系統，所述系統包括：

用于相對于所述基準基板定位所述樣本基板的裝置，其中所述樣本基板包括第一焦平面并且在所述第一焦平面上具有標記，所述基準基板包括第二焦平面并且在所述第二焦平面上具有標記，所述第一焦平面比所述第二焦平面更接近單個像平面；

用于將反射面定位在基準基板遠離所述第二焦平面的相對側上的裝置；

用于分立地將所述第一焦平面和所述第二焦平面同時成像在所述單個像平面上的裝置，其中將所述第一焦平面和所述第二焦平面同時成像包括使光透過所述第一焦平面、透過所述第二焦平面、并且從所述反射面反射回所述單個像平面；以及

用于響應于將所述第一焦平面和所述第二焦平面同時成像在所述單個像平面上，確定所述樣本基板相對于所述基準基板的相對位置的裝置。