[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制作方法、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410306806.3 | 申請日: | 2014-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN104102042B | 公開(公告)日: | 2017-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 汪棟 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 彩膜基板 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種彩膜基板,包括襯底基板和位于所述襯底基板上的彩色濾色層,所述彩色濾色層包括至少兩種顏色的區(qū)域,其特征在于,所述彩膜基板還包括位于所述襯底基板周邊區(qū)域的至少兩個對位標(biāo)識,所述對位標(biāo)識和所述彩色濾色層中不同顏色的區(qū)域一一對應(yīng),所述對位標(biāo)識為塊狀結(jié)構(gòu),至少一個所述對位標(biāo)識的頂部設(shè)置有用于使得對位標(biāo)識灰階一致的凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述凹槽的形狀為倒置的梯形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,還包括黑矩陣,所述對位標(biāo)識的材質(zhì)與所述黑矩陣的材質(zhì)相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色濾色層包括紅色區(qū)域、綠色區(qū)域和藍(lán)色區(qū)域,所述彩膜基板包括位于所述襯底基板周邊區(qū)域的三個所述對位標(biāo)識。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,兩個所述對位標(biāo)識的頂部設(shè)置有所述凹槽。
6.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-5任一項所述的彩膜基板。
7.一種彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板的周邊區(qū)域形成至少兩個對位標(biāo)識,所述對位標(biāo)識為塊狀結(jié)構(gòu),至少一個所述對位標(biāo)識的頂部設(shè)置有用于使得對位標(biāo)識灰階一致的凹槽;
在所述襯底基板上形成彩色濾色層,所述彩色濾色層包括至少兩種顏色的區(qū)域,所述對位標(biāo)識和所述彩色濾色層中不同顏色的區(qū)域一一對應(yīng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述凹槽的形狀為倒置的梯形。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述在襯底基板的周邊區(qū)域形成至少兩個對位標(biāo)識,所述對位標(biāo)識為塊狀結(jié)構(gòu),至少一個所述對位標(biāo)識的頂部設(shè)置有凹槽,包括:
在所述襯底基板上形成一層光刻膠層,通過多灰階掩膜板對所述光刻膠層進行曝光,經(jīng)過顯影后,形成至少兩個所述對位標(biāo)識,所述多灰階掩膜板包括完全透光區(qū)、半透光區(qū)和可變透光區(qū),所述完全透光區(qū)用以形成所述對位標(biāo)識上除所述凹槽以外的區(qū)域,所述半透光區(qū)用以形成所述凹槽的底部,所述可變透光區(qū)用以形成所述凹槽的側(cè)壁,所述可變透光區(qū)的透過率以所述半透光區(qū)的透過率為最低點,以所述完全透光區(qū)的透過率為最高點,且所述可變透光區(qū)的透過率沿遠(yuǎn)離所述凹槽的底部的方向遞增。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述在襯底基板的周邊區(qū)域形成至少兩個對位標(biāo)識,包括:
在所述襯底基板的周邊區(qū)域形成至少兩個所述對位標(biāo)識的同時,在所述襯底基板上形成黑矩陣。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,
所述在襯底基板的周邊區(qū)域形成至少兩個對位標(biāo)識,包括:
在所述襯底基板上形成三個所述對位標(biāo)識;
所述在所述襯底基板上形成彩色濾色層,包括:
在所述襯底基板上形成紅色區(qū)域;
在所述襯底基板上形成綠色區(qū)域;
在所述襯底基板上形成藍(lán)色區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,兩個所述對位標(biāo)識的頂部設(shè)置有所述凹槽。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





