[發明專利]石墨舟的清洗工藝

在審

• 申請號: 201410299396.4
• 申請日: 2014-06-19
• 公開（公告）號: CN104064503A
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發明（設計）人: 毛杰
• 申請（專利權）人: 奉化拓升商貿有限公司
• 主分類號: H01L21/673
• 分類號: H01L21/673;B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及硅太陽能電池制造中的鍍膜工藝，尤其是涉及一種石墨舟的清洗工藝。

背景技術

在硅太陽能電池制造中的鍍膜工藝中，石墨舟的表面會隨著制程次數的增加而逐漸被侵蝕，當石墨舟使用次數多之后，會使沉積在電池片表面的SiN膜的差異性變大。因此，當使用次數達到100次以上之后，需要將石墨舟分解并清洗。

現有的石墨舟清洗過程耗費的時間較長，而且即使進行了清洗，在長時間使用之后，石墨舟的飽和效果也會變差，這會導致色差片增多，影響了產品的整體質量。

發明內容

本發明為了克服上述的不足，提供了一種清洗時間短，且提高了石墨舟飽和效果的石墨舟的清洗工藝。

本發明的技術方案如下：

一種石墨舟的清洗工藝，其特征是，包括以下步驟：

(1)分解石墨舟；

(2)在氫氟酸溶液中對分解好的石墨舟進行第一次清洗；

(3)在清水中進行第二次清洗；

(4)在烘干爐中進行烘干；

(5)組裝石墨舟；

(6)在管式PECVD內對石墨舟進行飽和處理。

在步驟(2)和步驟(3)中均進行了持續的鼓泡，鼓泡氣壓在0.12-0.2Mpa之間。

步驟(2)中氫氟酸的濃度為10％，且該步驟中的清洗時間為2-3h。

步驟(3)中的清洗時間為1-2h。

步驟(4)中的烘干時間為8h。

步驟(6)為在400℃真空條件下進行2次射頻輝光，第一次輝光時間為2500s，間隔500s后進行第二次輝光，輝光時間為1800s。

步驟(6)中射頻輝光的頻射功率設為5000W，且使用了流量比為1∶9的氨氣和硫化氫。

本發明的有益效果是：

本發明大大的減少了清洗用的時間，且石墨舟在進行飽和處理之后，能夠有效的減少色差片的數量，提高了產品的整體質量。

具體實施方式

本發明公開了一種石墨舟的清洗工藝。

實施例1

一種石墨舟的清洗工藝，其特征是，包括以下步驟：

(1)分解石墨舟；

(2)在濃度為10％氫氟酸溶液中對分解好的石墨舟進行3h清洗，清洗時，對溶液進行持續的鼓泡，鼓泡氣壓為0.12Mpa；

(3)在清水中進行2h的清洗，清洗時，同樣對清水進行持續的鼓泡，鼓泡氣壓為0.12Mpa；

(4)在烘干爐中烘干8h；

(5)組裝石墨舟；

(6)在管式PECVD內對石墨舟進行飽和處理。

其中，(6)為在400℃真空條件下進行2次射頻輝光，第一次輝光時間為2500s，間隔500s后進行第二次輝光，輝光時間為1800s。上述射頻輝光的頻射功率設為5000W，且在射頻輝光的過程中使用了流量比為1∶9的氨氣和硫化氫。

實施例2

一種石墨舟的清洗工藝，其特征是，包括以下步驟：

(1)分解石墨舟；

(2)在濃度為10％氫氟酸溶液中對分解好的石墨舟進行2h清洗，清洗時，對溶液進行持續的鼓泡，鼓泡氣壓為0.15Mpa；

(3)在清水中進行1h的清洗，清洗時，同樣對清水進行持續的鼓泡，鼓泡氣壓為0.15Mpa；

(4)在烘干爐中烘干8h；

(5)組裝石墨舟；

(6)在管式PECVD內對石墨舟進行飽和處理。

其中，(6)為在400℃真空條件下進行2次射頻輝光，第一次輝光時間為2500s，間隔500s后進行第二次輝光，輝光時間為1800s。上述射頻輝光的頻射功率設為5000W，且在射頻輝光的過程中使用了流量比為1∶9的氨氣和硫化氫。

實施例3

一種石墨舟的清洗工藝，其特征是，包括以下步驟：

(1)分解石墨舟；

(2)在濃度為10％氫氟酸溶液中對分解好的石墨舟進行2.6h清洗，清洗時，對溶液進行持續的鼓泡，鼓泡氣壓為0.18Mpa；

(3)在清水中進行1.5h的清洗，清洗時，同樣對清水進行持續的鼓泡，鼓泡氣壓為0.18Mpa；

(4)在烘干爐中烘干8h；

(5)組裝石墨舟；

(6)在管式PECVD內對石墨舟進行飽和處理。