[發(fā)明專利]一種光學特性可控形狀記憶聚合物薄膜及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410292533.1 | 申請日: | 2014-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN104086791B | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 冷勁松;劉彥菊;李鵬;王文欣;金鵬;韓余 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業(yè)大學 |
| 主分類號: | C08J5/18 | 分類號: | C08J5/18;C08L25/14;C08L33/08;C08F220/18;C08F212/08 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所23109 | 代理人: | 牟永林 |
| 地址: | 150001 黑龍江省哈爾濱*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 特性 可控 形狀 記憶 聚合物 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種光學特性可控的形狀記憶聚合物薄膜的制備方法,其特征在于,包括下列步驟:
將苯乙烯、丙烯酸丁酯和過氧化苯甲酰按30∶20∶1的比例混合,配制成玻璃化轉變溫度為70℃的溶液,在室溫下攪拌,攪拌速率為300rad/min,攪拌時間為30min,至溶液澄清透明,獲得分散均勻的苯乙烯基形狀記憶聚合物溶液;將混合充分的溶液體系放置于室溫下真空箱中除去氣泡,氣壓達0.1MPa后繼續(xù)抽真空15min后待用,選用單面拋光的4寸硅片作為勻膠旋轉涂膜的基片,制備表面光滑的形狀記憶聚合物薄膜試樣,作為模板的基片在使用之前利用無水乙醇、丙酮依次浸泡10min,后用去離子水清洗兩次,重復放入去離子水中進行超聲波清洗10min,以上步驟完成后用鑷子將基片取出放入80℃恒溫箱中干燥備用;使用清洗干凈后的硅片作為勻膠的基片置于勻膠機托盤上,打開真空泵及勻膠機控制開關,使基片穩(wěn)定吸附于托盤上,將配置好待用的苯乙烯基形狀記憶聚合物溶液2ml滴到硅片模板上,設定勻膠轉速:低速500rpm、9s;高速2000rpm、20s,后啟動勻膠機開始旋涂,等待旋涂程序結束后,關閉電源用鑷子取出硅片正面向上放入滴有少量酒精溶液的玻璃培養(yǎng)皿中,加速結晶固化,薄膜材料變白后迅速取出放置于備好的另外一個干凈的玻璃培養(yǎng)皿中,用保鮮膜封口避免固化過程中雜質對薄膜性質的影響;將玻璃培養(yǎng)皿放置于室溫下30min后,再放置于烤膠機上緩慢加溫至75℃保溫1小時后取出,將表面硅片模板剝離,得到表面光滑為10微米的苯乙烯基形狀記憶聚合物薄膜樣品。
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