[發明專利]光子晶體核輻射防護面具有效
| 申請號： | 201410271950.8 | 申請日： | 2014-06-18 |
| 公開（公告）號： | CN104051040B | 公開（公告）日： | 2017-04-19 |
| 發明（設計）人： | 李萍;喬曉嵐;樊婷;常喬婉;翁燕豐 | 申請（專利權）人： | 河南科技大學 |
| 主分類號： | G21F3/02 | 分類號： | G21F3/02;G21F1/12 |
| 代理公司： | 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙)41120 | 代理人： | 羅民健 |
| 地址： | 471000 河*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光子 晶體 核輻射 防護 面具 | ||
1.光子晶體核輻射防護面具，由相嚙合的頭罩（1）和護頸罩（2）組成，在頭罩（1）上設有透明視窗（3）、呼吸通道口（4）和聽覺感應區(5)，其特征在于：頭罩（1）的內外側上均設有防輻射層，防輻射層依次由防核輻射面料（6）、鉛粉層（9）、膠粘層（8）和織物層（7）組成，織物層（7）均位于遠離頭罩（1）的一側；所述的織物層（7）由經緯交叉組成的合金鉛金屬絲與植物纖維捻制而成，在頭罩（1）內側固定有用于吸氧的供氧管道（10），透明視窗（3）由防輻射玻璃（301）和設置在防輻射玻璃（301）上的光子晶體層（302）組成，所述的光子晶體層（302）由8層A介質層、8層B介質層、8層C介質層、8層D介質層、8層E介質層、8層F介質層、8層H介質層、8層L介質層、8層M介質層、8層N介質層、8層G介質層和8層K介質層相互交替疊加構成（AB）8（CD）8（EF）8（HL）8（MN）8（GK）8型復合結構，其中（AB）8表示8層A介質和B介質交替疊加構成的復合介質層，其中A為3.9nm厚的硫化鋅，B為2.7nm厚的氟化鎂，該復合介質層設置在光子晶體層（302）的內側，并與防輻射玻璃（301）連接；其中（CD）8表示8層C介質和D介質交替疊加構成的復合介質層，其中C為3.2nm厚的硅，D為3.4nm厚的氟化鎂，其中（EF）8表示8層E介質和F介質交替疊加構成的復合介質層，其中E為2.8nm厚的硅，F為2.2nm厚的氟化鎂，其中（HL）8表示8層H介質和L介質交替疊加構成的復合介質層，其中H為2.6nm厚的硅,L為2.4nm厚的氟化鎂，其中（MN）8表示8層M介質和N介質交替疊加構成的復合介質層，其中M為2.0nm厚的硅，N為1.8nm厚的氟化鎂，其中（GK）8表示8層G介質和K介質交替疊加構成的復合介質層，其中G為1.0nm厚的硅，K為1.6nm厚的氟化鎂，該復合介質層設置在光子晶體層（302）外側。
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