[發明專利]一種線圈拉直裝置有效
| 申請號: | 201410269216.8 | 申請日: | 2014-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN104128534A | 公開(公告)日: | 2014-11-05 |
| 發明(設計)人: | 羅宇新 | 申請(專利權)人: | 蘇州固基電子科技有限公司 |
| 主分類號: | B21F1/02 | 分類號: | B21F1/02 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 215155 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 線圈 拉直 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種拉直裝置,具體涉及一種線圈拉直裝置。
背景技術
為了便于存放線材類產品,通常將線材繞制成線圈,在后期使用時再拉直,但是,如何將產品的平直度拉至近乎原始狀態,是業內一直無法解決的問題,鑒于此,迫切需要一種能夠將線圈拉直的裝置,而且最好能夠低成本以便于在中小企業中推廣應用。
發明內容
為解決現有技術的不足,本發明的目的在于提供一種線圈拉直裝置,使得線圈的平直度很高。?
為了實現上述目標,本發明采用如下的技術方案:
一種線圈拉直裝置,包括:底座、一對平行設置的滑座、及設置于底座上的拉線機構,所述底座上形成有滑槽,滑座的底部設置于滑槽內,所述滑座靠近頂部的位置固定連接一安裝軸,安裝軸對稱地連接于兩個滑座相對設置的一面上,繞有線圈的繞線器套裝于所述安裝軸上;所述拉線機構包括:第一拉直機構和第二拉直機構,所述第一拉直機構包括:形成有供線圈穿過的通槽的第一底座、向通槽內輸送水蒸氣的蒸汽輸送器;所述第二拉直機構包括:形成有線圈導向孔的第二底座。
前述兩個安裝軸帶有異性的磁性。
前述蒸汽輸送器與第一底座之間通過一Y型輸送管連接,所述Y型輸送管與第一底座的通槽之間設有蒸汽輸送結構。
前述滑座與滑槽通過鎖緊螺栓實現固定連接。
前述導向孔內填充一中間開孔的橡膠緩沖墊。
前述橡膠緩沖墊的開孔尺寸隨著線圈的運動方向逐漸減小。
本發明的有益之處在于:本發明的線圈拉直裝置,結構簡單,設計新穎巧妙,一對平行設置的滑座能夠用于安裝多個繞線器,然后通過第一拉直機構和第二拉直機構將線圈拉至極高的平直度,解決了現有技術中線圈無法完全拉直的問題。
附圖說明
圖1是本發明的線圈拉直裝置的一個優選實施例的結構示意圖。
圖中附圖標記的含義:1、底座,11、滑槽,2、滑座,3、鎖緊螺栓,4、安裝軸,5、繞線器,6、第一拉直機構,61、第一底座,62、蒸汽輸送器,63、Y型輸送管,7、第二拉直機構,71、第二底座,72、導向孔,73、橡膠緩沖墊。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本發明作具體的介紹。
參見圖1,本發明的一種線圈拉直裝置,包括:底座1、一對平行設置的滑座2、及設置于底座1上的拉線機構。在底座1上形成有滑槽11,滑座2的底部設置于滑槽11內,通過鎖緊螺栓3實現固定連接,滑座2靠近頂部的位置固定連接一安裝軸4,安裝軸4對稱地連接于兩個滑座2相對設置的一面上,繞有線圈的繞線器5套裝于安裝軸4上。優選地,兩個安裝軸4帶有異性的磁性,通過異性相吸的原理使得兩個安裝軸4“連接”在一起。
拉線機構是將線圈拉直的重要部件,具體包括:第一拉直機構6和第二拉直機構7,其中,第一拉直機構6包括:形成有供線圈穿過的通槽的第一底座61、向通槽內輸送水蒸氣的蒸汽輸送器62,蒸汽輸送器62采用現有技術中的蒸汽發生裝置即可;第二拉直機構7包括:形成有線圈導向孔72的第二底座71。通過第一拉直機構6和第二拉直機構7先后配合,基本能夠將線圈的平直度拉至初始狀態(即卷繞前的狀態)。第一拉直機構6通過蒸汽輸送器62向第一底座61內的通槽輸送水蒸氣,利用水蒸氣的熱量將線材軟化同時初步拉直,如圖1所示,蒸汽輸送器62與第一底座61之間通過一Y型輸送管63連接,Y型輸送管63與第一底座61的通槽之間設有蒸汽輸送結構,蒸汽輸送結構可以是任意形狀的貫通結構,如圓孔、方孔等,只要能夠將蒸汽輸送到通槽內即可。
經過了第一拉直機構6的初步拉直后,下面由第二拉直機構7將線圈的平直度進一步提高。前面已經說過,第二拉直機構7包括一個形成有線圈導向孔72的第二底座71。本發明中,為了保證較高的拉直度,在導向孔72內填充一中間開孔的橡膠緩沖墊73,而且橡膠緩沖墊73的開孔尺寸隨著線材的運動方向逐漸減小。這樣一來,靠近第一底座61的線圈入口處尺寸較大,方便將線材置入橡膠緩沖墊73中,隨著線材的運動方向(即拉直方向),橡膠緩沖墊73的開口逐步減小,同時由于橡膠緩沖墊73是有彈性的,所以能夠將線圈拉直至幾乎接近初始狀態的平直度。
以上顯示和描述了本發明的基本原理、主要特征和優點。本行業的技術人員應該了解,上述實施例不以任何形式限制本發明,凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術方案,均落在本發明的保護范圍內。
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