[發(fā)明專利]校正平臺標(biāo)尺的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410256220.0
• 申請日: 2014-06-10
• 公開（公告）號: CN104236407B
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃成在;金玟秀;李容勳;金載憲
• 申請（專利權(quán)）人: AP系統(tǒng)股份有限公司
• 主分類號: G01B3/04
• 分類號: G01B3/04;G01B21/02
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11205
• 代理人: 臧建明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種校正平臺標(biāo)尺的測量值的方法，所述標(biāo)尺測量安裝在襯底上的平臺的移動量，并且具體而言，涉及一種無論平臺標(biāo)尺的如何變形允許執(zhí)行精確測量的校正平臺標(biāo)尺的方法。

背景技術(shù)

作為一種在襯底上留下特定圖案的方法，存在有噴墨或激光束照射方案。

光束圖案化方法可以通過(激光)束照射在襯底上的希望位置處留下特定圖案。因此，頻繁地使用光束圖案化方法，因為所述方法可以精確且快速地應(yīng)用于較大區(qū)域。

如在第2012-0131338號韓國專利申請公開案中所揭示，典型的激光圖案化設(shè)備包含：處理室；安裝在處理室內(nèi)部的平臺，所述平臺支撐襯底并且在處理進(jìn)行方向上橫向移動襯底；以及安裝在處理室的頂部部分上的發(fā)射激光束的激光模塊。加載到激光圖案化設(shè)備的處理室中的襯底可以由來自處理室中的激光模塊的激光束進(jìn)行照射并且在其上的希望位置處進(jìn)行圖案化。

對于通過此種激光束照射的圖案化處理，襯底安裝在處理室中的襯底傳遞部分的平臺上并且在激光模塊的下部部分中往復(fù)運動。然而，當(dāng)處理進(jìn)行并且平臺與受到控制的移動距離相比過度或較少地移動時，圖案化目標(biāo)區(qū)域偏離希望區(qū)域，并且圖案化在不希望的區(qū)域上執(zhí)行。這是因為平臺標(biāo)尺在處理中通過例如周圍的熱源等各種原因引起的變形而發(fā)生。

舉例來說，當(dāng)假定平臺需要移動四個單位標(biāo)度并且平臺標(biāo)尺維持標(biāo)準(zhǔn)形狀而不發(fā)生變形時，如圖1A中所示，平臺精確地移動四個單位標(biāo)度。平臺驅(qū)動模塊移動平臺并且通過編碼器121讀取平臺標(biāo)尺10的標(biāo)度，并且移動所述平臺直到從平臺標(biāo)尺10中讀取的標(biāo)度變化為4那么大為止。

然而，當(dāng)平臺標(biāo)尺由于熱誘因或機械誘因而發(fā)生變形同時處理進(jìn)行時，平臺不以設(shè)定移動距離移動并且出現(xiàn)誤差。舉例來說，當(dāng)平臺標(biāo)尺的一端具有加熱部分時，如圖1B中所示，平臺標(biāo)尺10′的長度延伸，平臺標(biāo)尺10′也延伸并且具有與實際標(biāo)度相比拉長的標(biāo)度。因此，即使所述平臺將要移動4個單位標(biāo)度，標(biāo)尺的長度與真實的標(biāo)度相比也是拉長的，這是因為在通過平臺標(biāo)尺的編碼器讀取的標(biāo)度中出現(xiàn)誤差。也就是說，即使讀取標(biāo)度的變化量為4，那么平臺實際上移動的距離也對應(yīng)于5.4，而這不是對應(yīng)于4個單位標(biāo)度的設(shè)計距離。因此，與4相比平臺移動地更多。

因此，根據(jù)平臺標(biāo)尺的變形而產(chǎn)生的平臺的移動量誤差使得光束照射在偏離設(shè)計的圖案化區(qū)域的區(qū)域上。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供即使在平臺標(biāo)尺變形時也將平臺移動到精確位置的方法。

本發(fā)明還提供一種根據(jù)平臺標(biāo)尺的變形校正平臺的移動量誤差的方法。

根據(jù)一個示例性實施例，一種校正平臺標(biāo)尺的方法包含：測量平臺標(biāo)尺的一端的變形量和另一端的變形量，其中從一端朝向另一端沿縱向方向出現(xiàn)擴(kuò)張或收縮；通過使用一端和另一端的變形量計算將要應(yīng)用于平臺的移動量計算的標(biāo)度因子；以及通過應(yīng)用計算出的標(biāo)度因子計算平臺的移動控制值和位置校正值。

一端的變形量的測量可以通過以下方式執(zhí)行：在平臺移動之前在平臺標(biāo)尺的縱向方向上的一個軸上形成第一標(biāo)記和第二標(biāo)記、在平臺以設(shè)定距離從平臺標(biāo)尺的一端朝向另一端移動之后檢查平臺的第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的位置、將檢查到的第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的位置與移動之前先前測量到的標(biāo)記位置相比較，并且測量一端和另一端的變形量。

一端變形量的測量可以包含：在平臺移動之前在平臺標(biāo)尺的縱向方向上的一個軸上形成第一標(biāo)記和第二標(biāo)記；測量第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的位置并且獲得作為第一參考標(biāo)記坐標(biāo)和第二參考標(biāo)記坐標(biāo)的位置；將平臺從平臺標(biāo)尺的一端朝向另一端移動設(shè)定距離；測量在移動后的平臺上的第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的位置并且獲得作為第一移動標(biāo)記坐標(biāo)和第二移動標(biāo)記坐標(biāo)的測量到的位置；通過在平臺標(biāo)尺的縱向方向上將設(shè)定距離添加到第一參考標(biāo)記坐標(biāo)中而計算第一計算標(biāo)記坐標(biāo)，并且通過在平臺標(biāo)尺的縱向方向上將設(shè)定距離添加到第二參考標(biāo)記坐標(biāo)中而計算第二計算標(biāo)記坐標(biāo)；以及通過從第一移動標(biāo)記坐標(biāo)中減去第一計算標(biāo)記坐標(biāo)而計算一端的變形量，并且通過從第二移動標(biāo)記坐標(biāo)中減去第二計算標(biāo)記坐標(biāo)而計算另一端的變形量。

標(biāo)度因子的計算可以包含通過使用變形量差值計算標(biāo)度因子，變形量差值是從另一端的變形量中減去一端的變形量獲得的。

標(biāo)度因子的計算可以包含：計算從另一端的變形量中減去一端的變形量獲得的變形量差值；通過從設(shè)定距離中減去變形量差值計算實際移動距離值；以及通過將實際移動距離值除以設(shè)定距離計算標(biāo)度因子。

計算出的標(biāo)度因子的應(yīng)用可以包含：當(dāng)平臺移動時，通過采用以平臺移動命令值乘以標(biāo)度因子獲得的值作為平臺的移動控制值來移動平臺。