[發明專利]一種滅弧機構、繼電器框架及繼電器有效
| 申請號: | 201410236132.4 | 申請日: | 2014-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN103985604A | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發明(設計)人: | 施生圣;鐘叔明 | 申請(專利權)人: | 廈門宏發電力電器有限公司 |
| 主分類號: | H01H50/38 | 分類號: | H01H50/38;H01H50/00 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 趙根喜;鄭特強 |
| 地址: | 361021 福建省廈門*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 機構 繼電器 框架 | ||
1.一種滅弧機構,安裝于繼電器或接觸器,所述繼電器或接觸器具有至少一組能對應接觸的觸點,所述能對應接觸觸點之間形成有一弧隙,其特征在于,所述滅弧機構包括至少一磁鋼及至少一陶瓷片;
所述磁鋼位于所述弧隙外側,所述磁鋼能對所述弧隙處產生的電弧進行吹??;
所述陶瓷片位于所述磁鋼吹弧作用方向上。
2.根據權利要求1所述的滅弧機構,其特征在于:在所述磁鋼的磁場作用下,所述磁鋼向所述繼電器或接觸器框架外側吹弧。
3.根據權利要求2所述的滅弧機構,其特征在于:所述磁鋼成對設置,相對的所述磁鋼的相對面極性相反。
4.根據權利要求2所述的滅弧機構,其特征在于:所述陶瓷片成對設置,所述陶瓷片對稱地以中心對齊所述弧隙中心。
5.根據權利要求1至4任一項所述的滅弧機構,其特征在于:包括兩組并排的觸點,具有兩個間隔的所述弧隙;兩個所述磁鋼分別位于兩個弧隙間連線向外的延長線上;至少兩個所述陶瓷片分別安裝于所述弧隙外側,對應地所述陶瓷片中心連接垂直于兩個弧隙間連線。
6.根據權利要求1至4任一項所述的滅弧機構,其特征在于:包括兩組并排的觸點,具有兩個間隔的所述弧隙;所述陶瓷片位于兩個弧隙間連線向外的延長線上;所述磁鋼位于所述弧隙外側,對應的所述磁鋼中心連接垂直于兩個弧隙間連線。
7.一種繼電器框架,其特征在于:包括框架主體、至少一磁鋼及至少一耐電弧片;
所述框架主體具有中空部,所述中空部內容置至少一組能對應接觸的觸點,所述能對應接觸觸點之間形成有一弧隙;
所述磁鋼安裝于所述框架主體,所述磁鋼位于所述弧隙的外周,所述磁鋼能對所述弧隙處產生的電弧進行吹?。?/p>
所述耐電弧片安裝于所述框架主體,所述耐電弧片位于所述磁鋼吹弧作用方向上。
8.根據權利要求7所述的繼電器框架,其特征在于:在所述磁鋼的磁場作用下,所述磁鋼向所述框架外側吹弧。
9.根據權利要求7所述的繼電器框架,其特征在于:所述框架為塑料材質,所述耐電弧片為陶瓷片。
10.根據權利要求8所述的繼電器框架,其特征在于:所述磁鋼成對設置,相對的所述磁鋼的相對面極性相反。
11.根據權利要求10所述的繼電器框架,其特征在于:所述框架主體縷空形成多個從外側對齊所述弧隙的窗口,所述磁鋼及所述耐電弧片分別固定于各窗口。
12.根據權利要求8所述的繼電器框架,其特征在于:所述耐電弧片成對設置,所述耐電弧片對稱地以中心對齊所述弧隙中心。
13.根據權利要求7所述的繼電器框架,其特征在于:所述框架主體包括多個柱體、一上安裝部及一下連接部,各柱體間隔地布置于所述中空部外周,相鄰所述柱體之間形成窗口;所述上安裝部在上部連接各柱體;所述下連接部在下部連接各柱體,所述下連接部并與推動機構固定連接。
14.根據權利要求7至13任一項所述的繼電器框架,其特征在于:所述能對應接觸的觸點為間隔的兩組,每組分別包括動觸點和靜觸點,所述靜觸點固定于所述框架主體上部內側,所述動觸點對應位于所述中空部內。
15.根據權利要求14所述的繼電器框架,其特征在于:所述磁鋼分別位于兩個弧隙間連線向外的延長線上的所述窗口上;至少兩對所述耐電弧片分別安裝于所述弧隙外側的所述窗口上,對應地所述耐電弧片中心連接垂直于兩個弧隙間連線。
16.根據權利要求14所述的繼電器框架,其特征在于:所述耐電弧片安裝于位于兩個弧隙間連線向外的延長線上的所述窗口上;所述磁鋼安裝于所述弧隙外側的所述窗口上,對應的所述磁鋼中心連接垂直于兩個弧隙間連線。
17.根據權利要求10所述的繼電器框架,其特征在于:所述耐電弧片至少一側沿對應的所述窗口側邊延伸一定距離。
18.根據權利要求7至13任一項所述的繼電器框架,其特征在于:所述耐電弧片周邊向外形成凸塊或凹塊,所述框架主體的安裝位置上形成對應的咬合部。
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