[發明專利]無機微涂膜基材及其制造方法

在審

• 申請號: 201410235585.5
• 申請日: 2014-05-29
• 公開（公告）號: CN105086531A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發明（設計）人: 瓦拉蓬·虹他薩源;劉家麟
• 申請（專利權）人: 瓦拉蓬·虹他薩源
• 主分類號: C09D1/02
• 分類號: C09D1/02;C09D1/00;C09D7/12;B32B15/04
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 毛廣杰

1.一種無機微涂膜基材，其特征在于，包括：

一基材；以及

一無機微涂膜層，該無機微涂膜層位于該基材上，該無機微涂膜層為一無機微涂膜組合物，該無機微涂膜組合物包括一硅氧根離子溶液、一鋰離子溶液以及一鉀離子溶液，其中將該硅氧根離子溶液、該鋰離子溶液與該鉀離子溶液均勻混合而成該無機微涂膜組合物。

2.根據權利要求1所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該基材的材質包含選自由鋁、鎂、鈦、銅、鐵、鋰、玻璃與陶瓷所構成的群組。

3.根據權利要求1所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該鋰離子溶液為一硅酸鋰溶液。

4.根據權利要求3所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該硅酸鋰溶液以二氧化硅與氧化鋰所組成。

5.根據權利要求4所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中二氧化硅與氧化鋰的模數為2至12之間。

6.根據權利要求4所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中二氧化硅與氧化鋰額模數為2至4之間。

7.根據權利要求1所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該鉀離子溶液為一硅酸鉀溶液。

8.根據權利要求7所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該硅酸鉀溶液以二氧化硅與氧化鉀所組成。

9.根據權利要求8所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中二氧化硅與氧化鉀的模數為2到12之間。

10.根據權利要求8所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中二氧化硅與氧化鉀的模數為2到4之間。

11.根據權利要求4或10所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中氧化鉀與氧化鋰的模數為0.25至4之間。

12.根據權利要求1所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該無機微涂膜組合物進一步包括一顏料。

13.根據權利要求12所述的無機微涂膜基材，其特征在于，其中該顏料選自由二氧化鈦、氧化鋅、炭黑、氧化鐵黑、錳鐵黑、鈷藍、酮鈦菁、鐵青藍、透鐵、鈷綠、氧化鐵黃與鐵紅所構成的群組。

14.一種無機微涂膜基材的制造方法，其特征在于，包括以下幾個步驟：

提供一基材，其中該基材為根據權利要求1所述的基材，將該基材以一無機酸鹽進行表面改質；以及

提供一無機微涂膜組合物，其中該無機微涂膜組合物為權利要求1所述的無機微涂膜組合物，將該無機微涂膜組合物涂覆于該基材上，并烘烤而成一無機微涂膜層。

15.根據權利要求14所述的無機微涂膜基材的制造方法，其特征在于，其中該無機酸鹽選自由鋁酸與硅酸鹽所組成的群組。