[發(fā)明專(zhuān)利]一種制作金屬網(wǎng)柵的工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410229387.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105319836A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-02-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張芳芳 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 無(wú)錫嘉美達(dá)橡塑設(shè)備有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/00 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 11332 | 代理人: | 徐鵬飛 |
| 地址: | 214000 江蘇省無(wú)錫市惠山區(qū)惠山*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制作 金屬網(wǎng) 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及微電子制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種制作金屬網(wǎng)柵的工藝。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,集成電路日益致密化,在集成電路中需要制作非常微細(xì)的連接。目前,主要通過(guò)采用光刻技術(shù)和干法刻蝕技術(shù)在襯底材料上制作超細(xì)圖案,但是在制作工程中存在制作精細(xì)度不高的問(wèn)題,其主要原因是因?yàn)榻?jīng)曝光后的光刻膠在顯影過(guò)程中使沒(méi)有發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)部分的光刻膠由于粘的不牢固也被顯影液溶解掉所致。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種制作金屬網(wǎng)柵的工藝,能夠使制作的金屬網(wǎng)柵精細(xì)度高。
為達(dá)此目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種制作金屬網(wǎng)柵的工藝,包括:
步驟1、在襯底材料上涂覆光刻膠,用甩膠機(jī)甩膠,甩膠機(jī)工作的轉(zhuǎn)速設(shè)置兩組不同的轉(zhuǎn)速;
步驟2、用烘干機(jī)對(duì)甩膠后的襯底材料在加熱箱中加熱,加熱溫度為105℃-115℃,加熱時(shí)間為3mins-5mins;
步驟3、用曝光機(jī)對(duì)加熱后的襯底材料進(jìn)行曝光;
步驟4、用與所述光刻膠配套的顯影液對(duì)曝光后的襯底材料進(jìn)行顯影,顯影時(shí)間為80s-100s;
步驟5、用加熱箱對(duì)顯影后的襯底材料進(jìn)行加熱,加熱溫度為110℃,加熱時(shí)間為5mins-10mins;
步驟6、用刻蝕機(jī)進(jìn)行干法刻蝕。
其中,所述步驟1的兩組不同的轉(zhuǎn)速分別為,第一組轉(zhuǎn)速為800r/min,旋轉(zhuǎn)時(shí)間為30s;第二組轉(zhuǎn)速為6500r/min,旋轉(zhuǎn)時(shí)間為60s。
其中,所述步驟1涂覆光刻膠的量占襯底材料面積的2/3。
其中,所述步驟3曝光機(jī)的工作波長(zhǎng)為365nm的紫外光。
其中,所述步驟4顯影方式為用鑷子夾住所述曝光后的襯底材料在盛有顯影液的燒杯中順時(shí)針攪拌。
其中,所述襯底材料由硅片和通過(guò)離子濺射技術(shù)濺射在硅片上的金屬膜組成。
其中,所述步驟1之前還包括對(duì)襯底材料進(jìn)行預(yù)加熱,加熱溫度為110℃,加熱時(shí)間為3mins。
其中,所述步驟3的曝光時(shí)間為2s,曝光間隙為2um。
本發(fā)明包括:步驟1、在襯底材料上涂覆光刻膠,用甩膠機(jī)甩膠,甩膠機(jī)工作的轉(zhuǎn)速設(shè)置兩組不同的轉(zhuǎn)速;步驟2、用烘干機(jī)對(duì)甩膠后的襯底材料在加熱箱中加熱,加熱溫度為105℃-115℃,加熱時(shí)間為3mins-5mins;步驟3、用曝光機(jī)對(duì)加熱后的襯底材料進(jìn)行曝光;步驟4、用與所述光刻膠配套的顯影液對(duì)曝光后的襯底材料進(jìn)行顯影,顯影時(shí)間為80s-100s;步驟5、用加熱箱對(duì)顯影后的襯底材料進(jìn)行加熱,加熱溫度為110℃,加熱時(shí)間為5mins-10mins;步驟6、用光刻機(jī)進(jìn)行干法刻蝕。通過(guò)設(shè)置兩組不同的轉(zhuǎn)速進(jìn)行甩膠,使甩膠效果更佳均勻,粘黏性好;通過(guò)對(duì)甩膠后的襯底材料進(jìn)行加熱,能夠使光刻膠中的水分揮發(fā)掉,增加了光刻膠與襯底材料之間的結(jié)合力;在曝光時(shí),掩模板掩蓋住的光刻膠部分粘結(jié)效果好、沒(méi)有發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),使得在進(jìn)行顯影的過(guò)程中不會(huì)被顯影液溶解掉,因此,被溶解的部分與沒(méi)被溶解掉的部分陡度高、分界明顯,有利于后續(xù)的干法刻蝕,能夠制作出精細(xì)度高的金屬網(wǎng)柵。
具體實(shí)施方式
下面通過(guò)具體實(shí)施方式來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案。
一種制作金屬網(wǎng)柵的工藝,包括:
步驟1、在襯底材料上涂覆光刻膠,用甩膠機(jī)甩膠,甩膠機(jī)工作的轉(zhuǎn)速設(shè)置兩組不同的轉(zhuǎn)速;
步驟2、用烘干機(jī)對(duì)甩膠后的襯底材料在加熱箱中加熱,加熱溫度為105℃-115℃,加熱時(shí)間為3mins-5mins;
步驟3、用曝光機(jī)對(duì)加熱后的襯底材料進(jìn)行曝光;
步驟4、用與所述光刻膠配套的顯影液對(duì)曝光后的襯底材料進(jìn)行顯影,顯影時(shí)間為80s-100s;
步驟5、用加熱箱對(duì)顯影后的襯底材料進(jìn)行加熱,加熱溫度為110℃,加熱時(shí)間為5mins-10mins;
步驟6、用光刻機(jī)進(jìn)行干法刻蝕。
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