[發明專利]一種氣液傳質元件有效
| 申請號: | 201410224830.2 | 申請日: | 2014-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN103977590A | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發明(設計)人: | 何巖;員玫;黎源;趙磊;張俊華;成兆坤 | 申請(專利權)人: | 萬華化學集團股份有限公司;萬華化學(寧波)有限公司 |
| 主分類號: | B01D3/14 | 分類號: | B01D3/14;B01D3/32 |
| 代理公司: | 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 唐曙暉;劉明芳 |
| 地址: | 264002 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 傳質 元件 | ||
技術領域
本發明涉及一種帶導向作用的流線形氣液傳質元件,屬于化學工程等工業領域中的氣液傳質設備,具體的說是精餾(包括吸收、氣提)塔板的氣液傳質元件。
背景技術
傳統精餾技術經過近2個世紀的發展,已經取得了長足的進展,研究者開發了種類眾多的塔板和氣液傳質元件。但是,目前的塔板仍有一些方面需要改進,其中之一就是繼續提高塔板的傳質效率。
影響塔板效率的因素很多,板上液體的流動狀態就是其中之一。近年來的研究表明,傳統塔板上液體的流動并不是很規則的流動,而是存在渦流、回流、滯留以及返混等現象。這其中,以傳統塔板上弓形區存在的湍流和滯流影響最為嚴重。對常規圓形塔板,液體并不是以均勻的流速在整個塔板寬度方向均勻向前流動,而是中間的液體流速快,兩側則較慢。這樣大部分的液體是從入口堰到溢流堰的直線路徑流過,而兩側弓形區內的液體的流動則很緩慢,且存在嚴重的湍流和滯流。常規塔板的湍流區大小與堰高和液流強度有關,其面積可占塔板面積的25%~40%。因為湍流區的液體流動緩慢,嚴重影響該區域的氣液傳質效果,并浪費大量塔板面積。對于諸如反應精餾等特殊的場合,嚴重的湍流和滯留能產生很寬的液相停留時間分布,造成反應選擇性下降。
研究者開發了一些方案來解決上述問題,導向塔盤就是其中之一,即在塔盤上或氣液接觸原件上增加一些導向孔,利用氣體的推動作用規范液體的流動,使板上液體的流動更加均勻穩定,并降低液面落差。這種技術已經在導向篩板和導向浮閥中得到了成功的應用,如CN200610043178、CN200620046889、CN00261944、CN01220319、CN02112748公開的方案所示。但是,這些導向孔一般是為導流而特殊設計的,與氣液傳質功能相比屬于補充和從屬地位,并未將導流和氣液傳質很好的結合起來。專利CN02148496和CN03822439中公開的條形泡罩塔盤采用了另一種形式的導流片,但僅限于條形泡罩塔盤,應用受限制較多,如CN03822439中塔盤的弓形區因為條形泡罩的限制完全沒有導流孔,而CN03822439中或者仍是設置專門的常規導流孔作為附屬;同時齒縫和導流片形式、尺寸和方向完全相同,限制了其導流效果。以上類型的導流塔盤都還有改進的空間。
另外,對于板式塔,最核心的是氣液接觸元件,而板上的流體流經氣液接觸元件時,勢必受到阻礙和擾動,產生湍流、滯流等非理想流動現象,從而影響塔板效率;一些對流動要求比較高的場合,如反應精餾,嚴重的非理想流動還會影響反應轉化率和選擇性。但是人們對氣液接觸元件形狀對板上液體流動的影響研究尚不多,目前應用最廣泛的泡罩、浮閥、篩板塔盤大量采用的圓形、矩形氣液接觸元件,氣體普遍無差別的向四周或兩側噴射,存在的氣體與液體流動方向相反的情況,造成嚴重的湍流和滯流,影響了塔板效率的繼續提高,并增加了塔板壓降,限制了生產能力。
發明內容
本發明的目的是提供一種帶導流作用的流線形氣液傳質元件,通過將氣體出口和導向作用完全有機結合,同時借助優化的元件形狀,可以優化塔板上的液體流動,減小或消除塔板上流體流動的渦流和滯流現象,促使物料在塔板上均勻穩定流動,并可以有效減少或消除塔板上的液面落差,促進氣液均勻傳質,從而提高塔板效率和生產能力。
在本申請中,塔板與塔盤具有相同的意義。
根據本發明的第一個實施方案,提供:
1.一種帶導流作用的流線形導流氣液傳質元件,其特征在于:
a)氣液傳質元件采用流線形的形狀,該元件的長寬比大于1,優選1.2~20:1,優選2~10:1,更優選2.5~8:1,
b)氣液傳質元件上開有供氣體通過的多個齒縫和/或孔(齒縫和/或孔的數量例如但不限于是1~1000個,例如10-500個,優選30-300個),以及在齒縫和/或孔的旁邊設置多個導流片(導流片的數量例如但不限于是1~1000個,例如10-500個,優選30-300個),所述導流片的方向與沿入口堰到溢流堰的直線方向呈0~90°角,優選0~60°角,最優選0~45°角;以及
c)所述齒縫和/或孔以及導流片沿著液體流動方向不均勻布置(優選分布在元件的外周上),優選,齒縫或孔的分布在方向上和/或數量上和/或面積上和/或形狀上和/或高度上具有不均勻性,例如可以是一個帽罩上的齒縫或孔的分布或方向不均,也可是多個帽罩的齒縫或孔的分布或方向各不相同。
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