[發(fā)明專利]WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜及制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410211117.4 | 申請日: | 2014-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN104005002A | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 喻利花;許俊華;趙洪艦 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇科技大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 樓高潮 |
| 地址: | 212003 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | waln 硬質(zhì) 納米 結(jié)構(gòu) 薄膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種涂層及其制備方法,特別是一種WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜及制備方法,屬于陶瓷涂層技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
現(xiàn)代加工技術(shù)的發(fā)展,對刀具涂層提出了諸如“高速高溫”、“高精度”、“高可靠性”“長壽命”等更高的服役要求,除了要求涂層具有普通切削刀具涂層應(yīng)有的高硬度、優(yōu)異的高溫抗氧化性能外,更需要涂層具有優(yōu)良的摩擦磨損性能。然而,現(xiàn)有的刀具涂層雖然都具有較高硬度,但它們的摩擦磨損性能都不理想,難以滿足如高速、干式切削等苛刻的服役條件。氮化鎢(W2N)因具有高熔點、高硬度、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、低摩擦系數(shù)及優(yōu)良的抗磨損性能而受到研究者關(guān)注。近年來不少學(xué)者研究了WTiN和WCN等體系的力學(xué)性能和摩擦磨損性能,發(fā)現(xiàn)添加第三種元素后,力學(xué)性能及摩擦磨損性能均得到改善,但其熱穩(wěn)定性不好,直接影響其在高溫環(huán)境中的摩擦磨損性能。因此,與當(dāng)代加工制造業(yè)所要求的理想高硬度耐磨損涂層相比,此類硬質(zhì)涂層的摩擦磨損性能仍有不足。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有WN系硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)復(fù)合膜及多層膜抗氧化性能及摩擦磨損性能不理想的缺點,本發(fā)明的目的是提供一種WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜,具有高硬度、熱穩(wěn)定性和摩擦磨損性能好,且具有較高生產(chǎn)效率,可作為高速、干式切削的納米結(jié)構(gòu)硬質(zhì)薄膜。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜的制備方法。
為了實現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案:
一種WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜,采用雙靶共焦射頻反應(yīng)濺射法在硬質(zhì)合金或陶瓷基體上制備得到,薄膜厚度在1-3um,W含量為60at.%-100at.%,Al含量為0at.%-40at.%且大于0。
一種WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜的制備方法,是利用以高純W靶和Al靶為靶材,采用雙靶共焦射頻反應(yīng)法在硬質(zhì)合金或陶瓷基體上沉積獲得。
W含量為60at.%-100at.%且小于100at.%,Al含量為0at.%-40at.%且大于0;
較佳地,W含量為61.4at.%-100at.%且小于100at.%,Al含量為0at.%-38.6at.%且大于0;
較佳地,Al含量為12.03at.%-38.6at.%;
更佳地,Al含量為22.03at.%-32.4at.%,最佳為32.4at.%,因為當(dāng)Al含量為32.4at.%時,薄膜的硬度高達37GPa,干切削實驗下,摩擦系數(shù)和磨損率為0.3和0.9×10-8mm3·N-1mm-1。
沉積時,真空度優(yōu)于3.0×10-3Pa,以氬氣起弧,氮氣為反應(yīng)氣體進行沉積,濺射氣壓0.3Pa、氬氮流量比10:(6-15);
前述的WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜的制備方法,其特征在于,在基體上預(yù)先沉積CrN作為過渡層,Cr靶濺射功率為80-150W。
本發(fā)明的WAlN硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)薄膜,厚度在1-3um,綜合具備了高硬度,高耐磨性的優(yōu)良特點。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實施例所得不同Al含量的WAlN復(fù)合膜的XRD圖譜,可見,WAlN薄膜具有與W2N薄膜(Al含量為0時)相似的面心立方結(jié)構(gòu),薄膜主要呈(200)擇優(yōu)取向生長。(根據(jù)復(fù)合膜的主要成分W、Al、N,發(fā)明人將薄膜命名為WAlN)。
圖2為本發(fā)明實施例所得WAlN薄膜硬度(GPa)與Al含量(at.%)的變化關(guān)系;在0-40at.%的范圍內(nèi),隨Al含量的增加,薄膜的顯微硬度逐漸升高,當(dāng)Al含量為32.4at.%時,硬度最高為37GPa,Al含量高于32.4at.%時,隨著Al含量增加,薄膜的顯微硬度逐漸下降。
圖3為本發(fā)明實施例所得WAlN復(fù)合膜干切削實驗下平均摩擦系數(shù)及磨損率與Al含量的變化關(guān)系曲線,在0-40at.%的范圍內(nèi),隨Al含量的增加,薄膜的平均摩擦系數(shù)和磨損率均先減小后增大,Al含量為32.4at.%時,摩擦系數(shù)和磨損率達到最小,分別為0.30和0.9×10-8mm3·N-1mm-1。
圖4為本發(fā)明實施例所得WAlN復(fù)合膜干切削實驗下平均摩擦系數(shù)和磨損率隨摩擦溫度(℃)變化關(guān)系曲線。可知,當(dāng)溫度升至200℃時,WAlN復(fù)合膜的摩擦系數(shù)增大;繼續(xù)升高溫度時摩擦系數(shù)反而減小。而隨溫度的升高,復(fù)合膜的磨損率逐漸增大。
具體實施方式
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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