[發(fā)明專利]一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410199630.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103952766A | 公開(公告)日: | 2014-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧霏;馬鈺潔;馬長東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C30B31/22 | 分類號(hào): | C30B31/22;C30B33/02;C30B29/10;C30B29/64 |
| 代理公司: | 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221 | 代理人: | 崔苗苗 |
| 地址: | 250061 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 離子 注入 制備 磷酸 鈦氧鉀 薄膜 方法 | ||
1.一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法,其特征是,包括步驟如下:
(1)將磷酸鈦氧鉀晶體分別放入乙醇和丙酮中超聲清洗處理后,用氮?dú)獯蹈桑?/p>
(2)將低能量的輕離子-H離子或He離子,在常溫下注入到磷酸鈦氧鉀材料中,注入離子能量范圍是100keV~300keV,注入離子劑量范圍1×1016離子/平方厘米~10×1016離子/平方厘米;注入離子束流密度是3~4μA/cm2;
(3)將注入輕離子后的材料通過樹脂膠綁定在襯底上,或?qū)⒆⑷胼p離子后的材料直接鍵合在襯底上,注入面粘在襯底上;
(4)對(duì)上述樣品在空氣中進(jìn)行退火處理,退火溫度由室溫逐步升高,退火的高溫范圍為200~600℃,退火總時(shí)間2~6小時(shí)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法,其特征是,步驟(2)所述的輕離子注入面是拋光面,且注入面分有兩種切向,X切向和Z切向。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法,其特征是,步驟(2)所述的輕離子為H離子注入到X切向。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法,其特征是,注入離子能量范圍選100keV~200keV,注入離子劑量范圍5×1016離子/平方厘米~8×1016離子/平方厘米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法,其特征是,步驟(3)中提到樹脂膠的組成為:環(huán)氧樹脂和硬化劑按照質(zhì)量比10:1混合在一起。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用離子注入制備磷酸鈦氧鉀薄膜的方法,其特征是,退火是從室溫升到200℃,退火時(shí)間是4個(gè)小時(shí)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東大學(xué),未經(jīng)山東大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410199630.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





