[發明專利]離子光學部件及其制造方法有效
| 申請號: | 201410198059.6 | 申請日: | 2014-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN104157542B | 公開(公告)日: | 2017-08-04 |
| 發明(設計)人: | V·V·考弗土恩;A·W·思科莫;S·F·瑞茲威;P·M·瑞梅斯 | 申請(專利權)人: | 薩默費尼根有限公司 |
| 主分類號: | H01J49/06 | 分類號: | H01J49/06;H01J49/42;H01J9/02 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 姬利永 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子 光學 部件 及其 制造 方法 | ||
1.一種制造離子光學部件的方法,包括:
提供具有一個第一主表面和一個第二主表面的電隔離性基底,該第二主表面與該第一主表面是相對的并且基本上平行;
通過PCB技術中使用的設定路徑或銑銷將該基底的材料從該第一主表面機加工去除以形成一個第一電極子組件的特征,這些特征包括用于支持一個第一電極體的整合的一個第一表面和用于支持一個第二電極體的整合的一個第二表面,該第一表面通過間隙分區段,并且該第二表面通過間隙分區段;并且
將該第一電極子組件的第一表面和第二表面進行電鍍和掩模以在該第一表面上形成該第一電極體并且在該第二表面上形成該第二電極體,該第一電極體與該第二電極體被電隔離,該第一電極體與該第二電極體是預對齊的,并且一條垂直于該第一電極體的線與一條垂直于該第二電極體的線在該基底之外相交,
其中,所述離子光學部件具有隆起的離子運輸路徑。
2.根據權利要求1所述的方法,該方法包括在該電鍍和掩模之后進行另外的機加工以形成對齊特征。
3.根據權利要求2所述的方法,該方法包括將該第一電極子組件的對齊特征與一個互補的第二電極子組件的對齊特征對齊,以形成該離子光學部件的完整的電極結構。
4.根據權利要求3所述的方法,該方法包括使用一個安裝環將該第一電極子組件相對于該第二電極子組件固定地緊固。
5.根據權利要求1所述的方法,其中該離子光學部件是一個多極桿離子導向器,并且其中該第一電極體和該第二電極體作為限定該多極桿離子導向器的至少兩個極桿的伸長的電極體而形成。
6.根據權利要求5所述的方法,其中機加工包括將該基底的材料去除以形成將該第一表面與該第二表面分開的一個間隙,該間隙將該第一電極體與該第二電極體電隔離。
7.根據權利要求6所述的方法,其中機加工包括形成一個安置在該第一表面與該第二表面中間的橋接結構,該橋接結構橋接用于維持在該第一電極體與該第二電極體之間的預定對齊的間隙。
8.根據權利要求5所述的方法,其中機加工包括形成沿該第一表面和該第二表面中的每一個的長度的、處于隔開間隔的多個間隙,使得該第一表面和該第二表面中的每一個包括沿該第一表面和該第二表面中的對應表面的長度的方向上一個接一個安排的多個表面區段,其中在電鍍和掩模之后,該多個表面區段中的每個表面區段支撐一個相對應的電極體區段。
9.根據權利要求5所述的方法,其中機加工這樣進行,使得該第一表面和該第二表面各自在沿該第一電極子組件的長度的方向上延伸,并且使得在該第一表面與該第二表面之間的間距沿該第一電極子組件的長度是基本上恒定的。
10.根據權利要求1所述的方法,其中機加工包括將該基底的其他材料從該第一主表面機加工去除以形成一個離子進口透鏡和一個離子出口透鏡中的至少一個的特征。
11.一種制造離子光學部件的方法,包括:
提供具有一個第一主表面和一個第二主表面的電隔離性基底,該第二主表面與該第一主表面是相對的;
除了沿該基底的邊緣之外,通過PCB技術中使用的設定路徑或銑銷將材料從該第一主表面并且從該第二主表面機加工去除,以形成一個電極支撐物,該電極支撐物具有一個既不平行于該第一主表面也不平行于該第二主表面的表面;
通過PCB技術中使用的設定路徑或銑銷將該基底的其他材料機加工去除以限定沿該電極支撐物的表面的、處于隔開間隔的多個間隙,以便限定多個表面區段,這些表面區段通過這些間隙彼此分開;并且
將該電極支撐物進行電鍍和掩模以在每個表面區段上形成一個電極體并且形成在該多個表面區段的不同表面區段上形成的電極體之間進行連接的表面跡線,從而形成一個第一電極結構,形成在該多個表面區段的不同表面區段上的該電極體在該基底上相對于彼此是預對齊的,
其中,所述離子光學部件具有隆起的離子運輸路徑。
12.根據權利要求11所述的方法,該方法包括在形成一個在該基底內的并且鄰近該第一電極結構的第二電極結構,其中該第一電極結構和該第二電極結構對應于該離子光學部件中的相鄰電極結構。
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