[發(fā)明專利]一種印刷制版設(shè)備及制版方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410197628.5 | 申請日: | 2014-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN103955113A | 公開(公告)日: | 2014-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊濤 | 申請(專利權(quán))人: | 青島斯博銳意電子技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00;G03F1/00;B41C1/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 266109 山東省青島市青島高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 印刷 制版 設(shè)備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于印刷領(lǐng)域,特別涉及一種印刷制版設(shè)備及制版方法。
背景技術(shù)
制版工藝是印前工藝中的重要步驟,在整個印刷流程中扮演這一個很重要的角色,對印刷品的色彩、階調(diào)以及套準(zhǔn)有著極其重要的影響。隨著科技的發(fā)展,制版工藝也隨之不斷演變,從傳統(tǒng)膠片制版發(fā)展為噴蠟制版、噴墨制版,直至目前廣泛應(yīng)用的激光制版等等,隨著計算機技術(shù)的發(fā)展,制版工藝逐漸與之相結(jié)合,并向著高效、環(huán)保、低成本的方向不斷發(fā)展,從而形成了計算機直接制版技術(shù)。
所謂計算機直接制版(Computer?to?Plate,簡稱CTP)就是用計算機把原稿文字圖像經(jīng)數(shù)字化處理和排版編輯,直接在印版上進行掃描成像,然后通過顯影、定影等后處理工序或免后處理制成印版。與傳統(tǒng)的膠片曬版工藝相比具有工序簡單、無需出片、曬版且制版周期短等優(yōu)點。
然而,計算機直接制版設(shè)備的應(yīng)用受制于一個重要的因素,即光源限制,高能激光對制版質(zhì)量及生產(chǎn)效率有很重要的影響。采用激光制版的限制性因素,激光光斑的大小與能量效率成負(fù)相關(guān),從而影響燒蝕、成像效率,工藝復(fù)雜,能量利用率低,尤其是成像分辨率要求較高的情況下,精度要求越高,激光光斑越小,能量效率越低,燒蝕、成像時間越長,從而拉長了生產(chǎn)周期。
無論上述CTP亦或CTcP制版設(shè)備和工藝,均涉及到激光光源,激光光源在制版過程中直接影響制版的精度和良品率,其中制版工藝參數(shù)包括:激光光斑的大小的確定(包括點間距和點大小)、單點燒蝕時間、燒蝕面積、成像效率、激光功率、占空比、版材閾值、移動速率、步進速率、鏡頭倍率等等。為提高制版質(zhì)量和制版效率,將上述工藝參數(shù)進行調(diào)整并獲得較佳的技術(shù)效果是一項耗時極長的工作。此外,隨著激光光源的工作壽命延長和性能退化,技術(shù)人員需隨時調(diào)整其工作參數(shù)及相關(guān)其他工作參數(shù),造成不同版次的誤差積累,最終導(dǎo)致套印精度下降、印刷質(zhì)量降低。
現(xiàn)有的研究視圖引入新的光源以克服上述缺陷,以中國專利申請(申請?zhí)枺?01210399834.5)為例,其公開了一種絲網(wǎng)印刷網(wǎng)版的制作設(shè)備及制作方法,其具體公開了制版設(shè)備具有如下結(jié)構(gòu):包括依次設(shè)置的:一感光膠涂布裝置,用于在預(yù)處理后的網(wǎng)版表面涂布感光膠;一曬版裝置,其進一步包括:載物臺,用于將涂布感光膠的網(wǎng)版固定住;曬版光源,包括:按照一定間距排列的?LED?燈?;光源控制裝置,用于根據(jù)需要制作的印版圖案來控制?LED?燈,令?LED?燈直接在涂布感光膠的網(wǎng)版表面曝光出印版圖案;一清洗設(shè)備,用于清除網(wǎng)版上殘存的感光膠。所述?LED?燈為?UVLED?燈。具體制備工藝為:S1、對絲網(wǎng)進行預(yù)處理,所述預(yù)處理包括:繃網(wǎng)、清潔絲網(wǎng)和干燥;S2、對預(yù)處理后的網(wǎng)版表面涂布感光膠;S3、將涂布感光膠的網(wǎng)版固定在載物臺上;S4、光源控制裝置接收輸入的需要制作的印版圖案的數(shù)據(jù),并調(diào)節(jié)?LED?燈的亮滅,然后令?LED?燈在涂布感光膠的絲網(wǎng)表面曝光出印版圖案;S5、清除網(wǎng)版的網(wǎng)面上殘存的感光膠:未曝光的感光膠被沖洗掉,曝光后的感光膠留存下來,形成版膜。該申請采用的基本的思路是,采用陣列的點光源,即LED陣列作為曝光光源,通過控制陣列中單獨的LED燈的開閉,形成所需的曝光圖案,對印版進行曝光后,LED燈亮的區(qū)域固化印版,LED燈滅的區(qū)域不曝光,從而省卻了菲林,即膠片的使用,實現(xiàn)了直接制版。然而,該技術(shù)存在以下缺點:1.?精度不高,眾所周知,LED燈為點光源,LED燈形成的陣列為一系列LED發(fā)光單元間隔排列形成,單個LED燈所發(fā)出的光并非完全的平行光束,LED燈之間的間隔同樣存在散射光,單個LED燈的發(fā)光以中心強邊緣弱的形式傳播,尤其是LED燈與印版間隔較大的情況下,位于圖像邊緣處的LED燈的光線照射在印版上形成光暈,從而導(dǎo)致模糊的曝光圖形邊緣,造成成像精度下降;2.?成本高,LED陣列尤其是UVLED燈通常采用特殊的半導(dǎo)體材料,且該半導(dǎo)體材料為晶片整體光刻加工而成,通常采用CVD法生長,其成本極高;3.?容錯性差,LED陣列中容易因生產(chǎn)、保養(yǎng)等因素形成壞點,即個別LED發(fā)光單元不能正常發(fā)光,而由于工藝限制,難以更換個別LED顆粒,從而導(dǎo)致整塊LED陣列無法正常使用。
由此可見,現(xiàn)有技術(shù)中,尤其是廣泛應(yīng)用的CTP和CTcP制版工藝中存在著現(xiàn)有技術(shù)水平和解決思路難以逾越的技術(shù)障礙,為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的固定資產(chǎn)投資大、光源維護成本高、設(shè)備生命周期短、耗材成本高等技術(shù)問題,亟需轉(zhuǎn)變設(shè)計思路,提供一種結(jié)構(gòu)簡單、易于維護、制版成本低的新一代計算機制版設(shè)備。
發(fā)明內(nèi)容
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
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- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





