[發明專利]一種等離子噴涂羥基磷灰石涂層的晶化處理方法

無效

• 申請號: 201410188958.8
• 申請日: 2014-05-07
• 公開（公告）號: CN104164644A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 熊震國;李彤;侯保義;黃永玲;劉忠良;喬鎮;覃格姬;安國宏
• 申請（專利權）人: 北京百慕航材高科技股份有限公司
• 主分類號: C23C4/18
• 分類號: C23C4/18;A61L27/32
• 代理公司: 中國航空專利中心 11008
• 代理人: 李建英

1.一種等離子噴涂羥基磷灰石涂層的晶化處理方法，其特征在于，該方法包含下述步驟：

(1)先將等離子噴涂后的羥基磷灰石涂層產品放置在一個帶有充氣和排氣閥的密閉容器中的托架上，然后用真空泵將密閉容器內部抽至真空，真空度控制在1×10^-1Pa至1×10^-5Pa；

(2)向容器中通入飽和水蒸汽，蒸汽壓力為0.5MPa～2.0MPa；蒸汽通入量為10Kg/小時～50Kg/小時；

(3)根據蒸汽通入壓力和容器的整體結構強度，調整容器上排氣閥的控制壓力，使容器內的壓力值保持在0.5MPa～2.0MPa；

(4)加熱整個容器至500～900℃，并保溫2～6小時，加熱及保溫過程中持續水蒸汽的通入直至保溫過程結束；

(5)保溫時間結束后，停止對容器的加熱，關閉蒸汽通入和排出閥門，待容器內部自然冷卻至室溫后，打開排水閥門排出過程中形成的冷凝水，然后開啟容器取出處理好的產品。