[發(fā)明專利]一種金色LOW-E玻璃及制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410182445.6
• 申請日: 2014-04-30
• 公開（公告）號: CN103963370A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設計）人: 孫疊文;楊永華;潘韜;魏邦爭
• 申請（專利權(quán)）人: 中山市格蘭特實業(yè)有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B17/00;B32B15/00;C03C17/36
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 楊連華;陳玉瓊

【技術領域】

本發(fā)明涉及一種金色LOW-E玻璃，本發(fā)明還涉及一種磁控濺射法制備金色LOW-E玻璃的方法。

【背景技術】

現(xiàn)有的金色LOW-E玻璃的鍍膜層與玻璃基材的結(jié)合力弱、鍍膜層疏松、不均勻。膜層之間的粘結(jié)力差，膜層容易脫落。

【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術的不足，提供一種透過率高，鍍膜層與玻璃基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻的金色LOW-E玻璃，本發(fā)明還提供一種磁控濺射法制備金色LOW-E玻璃的方法。

本發(fā)明是通過以下技術方案實現(xiàn)的：

一種金色LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于：在玻璃基片的復合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復合有六個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiO₂層21，第二層為氧化不銹鋼層22，第三層為NiCr層23，第四層為Ag層24，第五層為NiCr層25，最外層為SiO₂層26。

所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜層SiO₂層21的厚度為10～40nm。所述第二層氧化不銹鋼層層22的厚度為20～50nm。所述第三層NiCr層23的厚度為5～15nm。所述第四層Ag層24的厚度為15～30nm。其特征在于所述第五層NiCr層25的厚度為5～15nm。所述最外層SiO₂層26的厚度為25～50nm。

一種制備權(quán)利要求1所述的金色LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步驟：

(1)磁控濺射SiO₂層，用交流中頻電源、氧氣作反應氣體濺射半導體材料重量比Si:Al＝90～98:2～10；

(2)氧化不銹鋼層，用直流電源、氧氣作主反應氣體的反應濺射；

(3)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應氣體的金屬濺射；

(4)磁控濺射Ag層，用直流電源、氬氣作主反應氣體的金屬濺射；

(5)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應氣體的金屬濺射；

(6)磁控濺射SiO₂層，用交流中頻電源、氧氣作反應氣體濺射半導體材料重量比Si:Al＝90～98:2～10。

所述第一膜層SiO₂層21的厚度為10～40nm，第二層氧化不銹鋼層層22的厚度為20～50nm，第三層NiCr層23的厚度為5～15nm，第四層Ag層24的厚度為15～30nm，第五層NiCr層25的厚度為5～15nm，最外層SiO₂層26的厚度為25～50nm。

所述步驟(1)和步驟(6)中半導體材料重量比Si:Al＝90:10。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點：

1、本發(fā)明膜層最內(nèi)層和最外層采用SiO₂層，增強膜層與玻璃的粘結(jié)，改善膜層性能及玻璃面的反射效果，膜層與玻璃基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻。

2、本發(fā)明色澤均勻，更顯明呈現(xiàn)金黃色，具有較高的可見光透過率。

【附圖說明】

圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】

一種金色LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的復合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復合有六個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiO₂層21，第二層為氧化不銹鋼層22，第三層為NiCr層23，第四層為Ag層24，第五層為NiCr層25，最外層為SiO₂層26。

所述第一膜層SiO₂層21，即二氧化硅層，通過與氧氣反應結(jié)合提高玻璃的折射率，SiO₂層的厚度為10～40nm，nm是納米，1m＝10⁹nm。增強膜層與玻璃的粘結(jié)，改善膜層性能及玻璃面的反射效果。

第二層氧化不銹鋼層層22，作調(diào)節(jié)金色顏色層，可得到較黃的金色效果。氧化不銹鋼層層22的厚度為20～50nm。

第三層NiCr層23，即鎳鉻金屬層，作為Ag層的保護層及平整層，提高耐氧化性能防止Ag層的氧化。NiCr層23的厚度為5～15nm。

第四層Ag層24，即金屬銀層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用；Ag層厚度為的15～30nm，

第五層NiCr層25，即鎳鉻金屬層，作為Ag層的保護層及平整層，提高耐氧化性能防止Ag層的氧化。NiCr層23的厚度為5～15nm。