[發明專利]蝕刻劑組合物

有效

• 申請號: 201410182264.3
• 申請日: 2014-04-30
• 公開（公告）號: CN104250814B
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 劉仁浩;鞠仁說;南基龍;樸英哲;尹暎晉;李昔準
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/18
• 分類號: C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 孫昌浩;韓芳

1.一種蝕刻劑組合物，包括：

0.5重量％至20重量％的過硫酸鹽；

0.01重量％至2重量％的氟化物；

1重量％至10重量％的無機酸；

0.5重量％至5重量％的環胺化合物；

0.1重量％至10.0重量％的具有氨基和磺酸基的化合物；

0.1重量％至15.0重量％的有機酸或有機酸鹽；以及

對于總共100重量％的所述蝕刻劑組合物的水，

其中，所述重量百分數基于所述蝕刻劑組合物的總重量，

所述具有氨基和磺酸基的化合物不包含環狀磺酸，

具有所述氨基和所述磺酸基的所述化合物通過以下化學式1表示：

[化學式1]

在此，R1和R2單獨地選自氫和C1至C3烷基基團，并且R3是鍵合或C1至C3亞烷基基團，

所述蝕刻劑組合物能夠蝕刻由銅和鈦形成的多層結構。

2.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，所述過硫酸鹽是過硫酸鉀(K₂S₂O₈)、過硫酸鈉(Na₂S₂O₈)、以及過硫酸銨((NH₄)₂S₂O₈)中的至少一個。

3.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，所述氟化物是氟化銨、氟化鈉、氟化鉀、氟化氫銨、氟化氫鈉、以及氟化氫鉀中的至少一個。

4.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，所述無機酸是硝酸、硫酸、磷酸、以及高氯酸中的至少一個。

5.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，所述環胺化合物是氨基四氮唑、咪唑、吲哚、嘌呤、吡唑、吡啶、嘧啶、吡咯、吡咯烷、以及吡咯啉中的至少一個。

6.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，具有所述氨基和所述磺酸基的所述化合物是氨基磺酸或氨基乙磺酸。

7.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，所述有機酸是羧酸、二元羧酸或三羧酸、以及四羧酸中的至少一個，并且，所述有機酸鹽是所述有機酸的鉀鹽、鈉鹽、或銨鹽。

8.根據權利要求1所述的蝕刻劑組合物，其中，所述有機酸是乙酸、丁酸、檸檬酸、甲酸、葡糖酸、羥基乙酸、丙二酸、乙二酸、戊酸、磺基苯酸、磺基琥珀酸、磺基酞酸、水楊酸、磺基水楊酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、琥珀酸、蘋果酸、酒石酸、異檸檬酸、丙烯酸、亞氨基二乙酸、以及乙二胺四乙酸(EDTA)中的至少一個，并且，所述有機酸鹽是所述有機酸的鉀鹽、鈉鹽、或銨鹽。