[發明專利]精密對位平臺的定位方法

在審

• 申請號: 201410140522.1
• 申請日: 2014-04-09
• 公開（公告）號: CN104097071A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 莊運清;陳偉倫
• 申請（專利權）人: 高明鐵企業股份有限公司
• 主分類號: B23Q1/25
• 分類號: B23Q1/25
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 王晶

技術領域

本發明涉及一種精密對位平臺，特別涉及一種整合有塊狀剛性接口的精密對位平臺定位方法創新技術。

背景技術

隨著高科技時代的來臨，多種制造加工的處理模式已進入奈米等級，眾多精密產品于制程中有更高更嚴苛的精度要求，尤其是光電及晶圓產品，其精密定位技術成為必備條件。

精密加工制程中，對位平臺（或稱對位滑臺）為產業界普遍采用的設備；目前對位平臺的典型結構形態，主要是在一活動平臺與一基座之間橫設有數組X軸向與Y軸向的螺桿導動裝置，等螺桿導動裝置的組裝座部被定位于基座，螺桿導動裝置的伸縮作動端則呈滑動配合狀態連結于活動平臺；藉此，其運作時能夠透過控制等螺桿導動裝置的其中單組作動或整體同動等方式，達到驅使活動平臺位移或轉動以調校加工精準度的目的。

前述對位平臺結構于使用上雖確可達到其精密位移調校的功能，但其問題點卻是出在于定位的部份，概因，對位平臺結構無論處于作動狀態或定止狀態時，其活動平臺的支撐力與定位性完全是仰賴等螺桿導動裝置的連接關系來達成，然而，由于等螺桿導動裝置與活動平臺之間呈滑動配合連接關系，此種組合狀態于二者各相連結處難免存在有配合公差，而等配合公差累積的結果，勢必造成對位平臺于定止狀態時并無法達到剛性穩固定位狀態的問題，亦即對于重壓力、側向作用力等并無足夠的承載支撐能力，此一問題對于三軸配置形態的對位平臺而言尤為嚴重，因其活動平臺定止時，其中一導動軸呈較大自由度連結狀態，故承載支撐能力較弱；而另一種四軸配置形態對位平臺，其側向承載力雖優于前述三軸配置形態者，但其缺點是制造成本大幅提高，且仍舊存在組合累進公差問題而無法達到剛性穩固支撐狀態；是以綜合上揭習知對位平臺的結構設計，其加工過程中當活動平臺受力達一定程度時，往往容易產生抖振、偏移現象而嚴重影響到最終產品加工精度與質量，如此而難以符合產業界預期的高精度要求，實有必要再加以思索突破。

發明內容

本發明的主要目的在于提供一種精密對位平臺的定位方法，其所欲解決的技術問題，針對如何研發出一種更具理想實用性的新式精密對位平臺定位方法為目標加以思索創新突破。應用于一精密對位平臺的活動平臺與基座之間，活動平臺與基座之間組設有至少兩組導動裝置。

為達到上述目的，本發明采用以下技術方案：

一種精密對位平臺的定位方法包括：于活動平臺與基座相對應位置設置至少一塊狀剛性接口；令所述塊狀剛性接口具一定位端面定位于活動平臺或基座任其中一者，塊狀剛性接口并具一抵靠端面，當活動平臺未載重時，令抵靠端面與基座或活動平臺之間保有一可活動間隙；當活動平臺載重受壓時，得令抵靠端面與基座或活動平臺之間的可活動間隙消除而呈現彼此抵靠密合狀態。

藉此創新方法，本發明的主要效果與優點，當精密對位平臺的活動平臺通過導動裝置的驅動達成對位時，能夠通過塊狀剛性接口產生剛性支撐作用力，以加強活動平臺的載重方向結構強度、有效支撐對抗活動平臺的重壓力，而能增益其結構強度與穩固性。

本發明的另一目的，在于所述塊狀剛性接口可為一可控制式磁吸接口，且所述定位方法中并包括一控制手段以控制切換可控制式磁吸接口的磁吸力啟閉狀態，令活動平臺獲得加強定位效果，進以消除構件組合間隙與累進公差，且有效支撐對抗活動平臺的側向力、重壓力及滾壓作用力，進而達到增益精密對位平臺的活動平臺結構強度與穩固性、大幅提升加工精度質量的實用進步性。

本發明的又一目的，在于定位方法中并包括一氣浮控制手段，以使可控制式磁吸接口能夠產生氣隙，以利于活動平臺的作動順暢性。

附圖說明

圖1為本發明的方法步驟文本框圖。

圖2為本發明具體結構實施例的分解立體圖。

圖3為本發明具體結構實施例的組合立體圖。

圖4為本發明具體結構實施例的組合剖視圖。

圖5為本發明的電磁吸附座內部結構立體剖視圖。

圖6為本發明的氣浮控制手段運作狀態示意圖。

圖7為本發明能夠有效支撐對抗來自活動平臺上于加工過程中所產生的側向力及重壓力的功效示意圖。

圖8為本發明另一結構實施例的分解立體圖。

圖9為本發明另一結構實施例的組合立體圖。

圖10為本發明另一結構實施例的組合剖視圖。

圖11為本發明另一結構實施例裝設于一加工機上的使用狀態圖。

圖12為本發明另一結構實施例的電磁吸附座內部結構立體剖視圖。

圖13為本發明另一結構實施例可通過噴氣孔將氣壓噴入氣隙中形成氣浮作用的狀態示意圖。