[發(fā)明專利]一種抗青光眼手術(shù)中所用防術(shù)后鞏膜瓣粘連的器材無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410139462.1 | 申請日: | 2014-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN103919643A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 齊文華;侯晚秋;趙睿琪 | 申請(專利權(quán))人: | 齊文華;侯晚秋;趙睿琪 |
| 主分類號: | A61F9/00 | 分類號: | A61F9/00;A61N2/04;A61N2/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100062 北京市東*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 青光眼 手術(shù) 所用 術(shù)后 鞏膜 粘連 器材 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種抗青光眼手術(shù)中所用防術(shù)后鞏膜瓣粘連的器材,屬于醫(yī)療器材領(lǐng)域。?
背景技術(shù)
青光眼是一種不可逆性致盲性眼病,正確治療可避免眼盲的發(fā)生。眼壓升高是其主要的危險因素。長期以來,小梁切除術(shù)是目前臨床上治療青光眼最主要的手術(shù)方法,手術(shù)的目的是控制患者的眼壓。?
在抗青光眼濾過手術(shù)中,保持濾過道的通暢是手術(shù)成功的關(guān)鍵,而阻塞瘺道外口是手術(shù)失敗的主要原因。傳統(tǒng)的小梁切除術(shù)是目前治療青光眼最普遍應(yīng)用的較好手術(shù)方式,但也存在術(shù)后有相當(dāng)程度的組織反應(yīng)和瘢痕形成的缺點。盡管目前小梁切除手術(shù)的手術(shù)方式和術(shù)中相關(guān)藥物、器材已有了很大的發(fā)展,但是手術(shù)后2年內(nèi)失敗率仍達15%~30%。失敗的主要原因與術(shù)后濾過通道尤其是鞏膜瓣下及鞏膜與結(jié)膜間瘢痕組織增生有關(guān)。?
青光眼術(shù)后常需患者按摩眼球,使眼內(nèi)房水自濾過通道流出,既可以調(diào)節(jié)眼壓,又可以使房水對濾過通道進行沖刷,減少瘢痕形成。但青光眼患者多沒有相關(guān)眼科知識,在按摩時不能保證手法和力度的準(zhǔn)確,不正確的眼球按摩不但不能達到所需的效果,還可能對眼球造成損傷。?
因此,需要一種能夠在青光眼術(shù)后既可以減少術(shù)后鞏膜瓣粘連,又能對眼球起到按摩效果的器材。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明公開了一組青光眼手術(shù)中所用器材,包括由非生物材料及鑄于其內(nèi)的磁性物質(zhì)支撐部件構(gòu)成的植片和含有可調(diào)節(jié)電流強度及節(jié)律的電磁圈的配件。?
使用本發(fā)明,既可以減少青光張術(shù)后鞏膜瓣粘連,又能在術(shù)后起到眼球按摩的作用,調(diào)節(jié)術(shù)后眼壓,可以提高手術(shù)遠期效果,降低小梁切除術(shù)的失敗率。?
附圖說明
圖1為植片正視圖,其中,1為外部包繞之非生物材料,2為內(nèi)部磁性物質(zhì),植片為長方形或梯形圖中為長方形),長寬要求小于4mm×3mm。?
圖2植片側(cè)視圖,其中,1為外部包繞之非生物材料,2為內(nèi)部磁性物質(zhì),厚度要求小于0.5mm。?
具體實施方式
根據(jù)本發(fā)明的手術(shù)器材,包括一個內(nèi)部包含磁性物質(zhì)、表面由非生物材料包裹的植片,此部分手術(shù)中留置于眼球壁鞏膜瓣下;及一個含有電磁圈的配件,此部分為術(shù)后在眼球外使用。電磁圈產(chǎn)生的電磁強度及節(jié)律均可根據(jù)患者所需眼壓進行調(diào)節(jié)。?
所述植片為長方形或梯形,其長寬小于4mm×3mm,厚度小于0.5mm。植片可根據(jù)實際需求設(shè)計為可固定型或游離型,植片內(nèi)包繞的磁性物質(zhì)可以為金屬或磁石薄片,需有足夠的磁性,可以和眼球外的電磁圈配件產(chǎn)生足夠的吸力;植片外部的材料要求為惰性物質(zhì),不與眼球壁糾織發(fā)生粘連、不會起排異反應(yīng),外部?材料要足夠薄,僅起到包繞分隔內(nèi)部磁性物質(zhì)的作用,且不能影響內(nèi)部物質(zhì)的磁性。?
外部配件的主要部分為一個可以調(diào)節(jié)電磁強度及節(jié)律的電磁圈,其外部結(jié)構(gòu)可以根據(jù)實際需要進行設(shè)計,要求能與上眼瞼保持良好的貼合,電磁圈所在位置正對眼內(nèi)植片所在部位,可以與眼內(nèi)植片產(chǎn)生足夠的吸引力。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于齊文華;侯晚秋;趙睿琪,未經(jīng)齊文華;侯晚秋;趙睿琪許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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