[發明專利]噴水織機動能補償結構有效
| 申請號: | 201410092955.4 | 申請日: | 2014-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN103820927A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發明(設計)人: | 沈志平 | 申請(專利權)人: | 湖州潤源絲織有限公司 |
| 主分類號: | D03D47/32 | 分類號: | D03D47/32 |
| 代理公司: | 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 | 代理人: | 連圍 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴水 織機 動能 補償 結構 | ||
所屬技術領域
本發明涉及紡織機械領域,特別地,是一種用于噴水織機噴頭的動能補償結構。
背景技術
無梭織機是繼有梭織機之后,誕生的一種新型織機。無梭織機以其分量輕、振動小、噪音低、車速快、效率高等優點,迅速占領了織機市場。無梭織機的引緯方式是多種多樣的,有劍桿、噴射(噴氣、噴水)、片梭、多梭口(多相)和編織等方式。
噴水織機屬于噴射織機,是利用水作為引緯介質,通過噴射水流對緯紗產生摩擦牽引力,使固定筒子上的緯紗引入梭口。噴水織機的水流集束性好,加之水對緯紗的摩擦牽引力也大,因此使噴水織機的緯紗飛行速度、織機速度都居各類織機之首。由于水流的集聚性較好,噴水織機上沒有任何防水流擴散裝置,即使這樣它的筘幅也能達到兩米多。但是使用噴水織機作為引緯的方式將耗費大量的水,同時在緯紗飛行中,緯紗并不會按直線前進而且動能衰減更快。
發明內容
為了解決上述問題,本發明的目的在于提供一種噴水織機動能補償結構,該噴水織機動能補償結構能夠在緯紗飛行中補充動能。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:
該噴水織機動能補償結構包括設置在織機投緯端的噴嘴,所述噴嘴包括噴嘴芯和圍繞在所述噴嘴芯口部外側的導紗管,所述噴嘴芯通過緯紗,所述噴嘴芯外側和所述導紗管內側形成的高壓空間內有高壓水流通過,所述高壓空間連通一供應所述高壓水流的進水通道,所述導紗管的口部均布有軸線平行于所述導紗管軸線的第二噴口,所述第二噴口與所述進水通道連通。
作為優選,所述第二噴口的數量為偶數個。
作為優選,所述第二噴口內設置有電磁閥,所述電磁閥在投緯時間斷的開閉所述第二噴口。
作為優選,每次投緯時,所述第二噴口噴出的高壓水流晚于所述導紗管噴出的高壓水流。
本發明的優點在于:
利用所述第二噴口噴射的高壓水流圍繞運動的緯紗,所述高壓水流由于和緯紗同向運動,因此,高壓水流和緯紗之間的空氣由于被擠在一起,空氣的流速要比外部大一些,壓強就要比外部小一些。這樣,空氣的壓力差將使高壓水流和緯紗在運動中結合,在投緯末端,高壓水流將補充緯紗動能的不足和修正緯紗軌跡的偏移。
附圖說明
圖1是本噴水織機動能補償結構的側視結構示意圖。
圖2是本噴水織機動能補償結構圖1的A-A剖視結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明:
在本實施例中,參閱圖1和圖2,該噴水織機動能補償結構包括設置在織機投緯端的噴嘴,所述噴嘴包括噴嘴芯300和圍繞在所述噴嘴芯300口部外側的導紗管100,所述噴嘴芯300通過緯紗10,所述噴嘴芯300外側和所述導紗管100內側形成的高壓空間內有高壓水流通過,所述高壓空間連通一供應所述高壓水流的進水通道120,所述導紗管100的口部均布有軸線平行于所述導紗管100軸線的第二噴口200,所述第二噴口200與所述進水通道120連通。
上述噴水織機動能補償結構,所述第二噴口200的數量為偶數個,偶數個所述第二噴口200可以使第二噴口200噴出的高壓水流對稱的分布在緯紗10軸線周圍,可以抵消緯紗10對對稱的兩股高壓水流的吸引,防止緯紗10偏移運動軌跡。
上述噴水織機動能補償結構,所述第二噴口200內設置有電磁閥210,所述電磁閥210在投緯時間斷的開閉所述第二噴口200,間斷的高壓水流能夠減少水的使用量。
上述噴水織機動能補償結構,每次投緯時,所述第二噴口200噴出的高壓水流晚于所述導紗管100噴出的高壓水流,由于緯紗10的橫截面較大,因此受到的空氣阻力相對于所述第二噴口200噴出的高壓水流所受的空氣阻力更大,因此緯紗10速度的衰弱較高壓水流更快,因此高壓水流晚于緯紗10噴出,高壓水流的頭部才能在投緯的末端與緯紗10結合,否則高壓水流的頭部將快于緯紗10的頭部。
上述噴水織機動能補償結構的原理:
投緯時,第二噴口噴出高壓水流,噴嘴芯300噴出緯紗10和高壓水流的結合物,高壓水流和緯紗10之間的空氣由于被擠在一起,空氣的流速要比外部大一些,壓強就要比外部小一些。這樣,空氣的壓力差將使高壓水流和緯紗10在運動中結合,在投緯末端,高壓水流將補充緯紗10動能的不足和修正緯紗10軌跡的偏移。
以上所述僅為本發明的較佳實施例,并不用以限制本發明,凡在本發明的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。
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