[發(fā)明專利]電化學微流芯片及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410092148.2 | 申請日: | 2014-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN103822961B | 公開(公告)日: | 2018-08-31 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄧敏;李曉波;石威 | 申請(專利權)人: | 南京潔態(tài)環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/48 | 分類號: | G01N27/48;B81C1/00 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 董科;閔東 |
| 地址: | 210000 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電化學 芯片 及其 制備 方法 | ||
1.一種電化學微流芯片,其特征在于:包括設置在基底(5)上的金屬Cr層(1),所述金屬Cr層(1)上設置有金屬Au層(2),所述金屬Au層(2)上設置有作為工作電極的金屬Bi層(3)和作為輔助電極的電極Ag或AgCl層(4),所述基底(5)上設置有上蓋(7),上蓋(7)與基底(5)之間的空隙為微流道(6);
其中,所述基底(5)為環(huán)烯共聚物材質,所述微流道(6)為環(huán)烯共聚物材質,所述上蓋(7)環(huán)烯共聚物材質;
其中,所述上蓋(7)為長條形,中部寬于兩端,兩端為圓角,上蓋(7)中心為容納所述電化學微流芯片的凹槽。
2.一種電化學微流芯片的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1)環(huán)烯共聚物基底上,濺射金屬Cr層、金屬Au層和金屬Bi層,依次進行甩膠、前烘、切片、曝光、中烘、顯影處理,根據(jù)掩模版設計的電化學芯片結構,實現(xiàn)其光刻膠結構的圖形化;
步驟2)以溶液刻蝕的方法,刻蝕出金屬電極Au和工作電極金屬Bi層;
步驟3)以電鍍方法電鍍出電極Ag或AgCl層;
步驟4)以注塑成型方法,制造出環(huán)烯共聚物材質的微流道;
步驟5)然后以紫外固化膠粘接的方式,對電極基片和微流道進行封裝。
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