[發(fā)明專利]光學(xué)濾波器裝置、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410090778.6 | 申請日： | 2014-03-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN104049293B | 公開（公告）日： | 2018-08-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 松下友紀(jì) | 申請（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G02B5/28 | 分類號(hào)： | G02B5/28;G02B26/00;G01J3/46;G01N21/65;G01N21/359 |
| 代理公司： | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 余剛;吳孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 濾波器 裝置 模塊 以及 電子設(shè)備 | ||
1.一種光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，具備：
殼體，具有能使光射入內(nèi)側(cè)的入射光通過孔；
光圈，設(shè)置于所述殼體的外側(cè)，用于限制向所述入射光通過孔射入的光；以及
干涉濾波器，設(shè)置于所述殼體的內(nèi)側(cè)，具備第一反射膜以及與所述第一反射膜相對的第二反射膜，
其中，在從膜厚方向觀察所述第一反射膜以及所述第二反射膜的俯視觀察中，所述光圈的開口、所述入射光通過孔、和所述第一反射膜以及所述第二反射膜被設(shè)置為重疊，
所述第一反射膜配置于所述第二反射膜與所述入射光通過孔之間，
在將所述第一反射膜的直徑設(shè)為Φm、將所述入射光通過孔的口徑設(shè)為Φp、將所述光圈的開口直徑設(shè)為Φa時(shí)，所述光學(xué)濾波器裝置滿足Φa<Φm<Φp的關(guān)系。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
所述光圈的開口、所述入射光通過孔、所述第一反射膜、以及所述第二反射膜的在所述俯視觀察中的各中心點(diǎn)位于同一軸上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
在將從所述入射光通過孔射入所述第一反射膜的光的入射角度設(shè)為θ、將從所述第一反射膜至所述光圈的距離設(shè)為d時(shí)，所述光學(xué)濾波器裝置滿足(Φp-Φm)>2dtanθ的關(guān)系。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
所述光學(xué)濾波器裝置滿足(Φm-Φa)>2dtanθ的關(guān)系。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
在所述殼體的外側(cè)設(shè)置有用于覆蓋所述入射光通過孔的透光基板，
所述光圈設(shè)置于所述透光基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
在所述透光基板中的與所述第一反射膜相對的面上設(shè)置有反射防止膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
所述光圈中的與所述第一反射膜相對的面的光反射率為1％以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的光學(xué)濾波器裝置，其特征在于，
所述殼體具有出射光通過孔，相對于所述第一反射膜以及所述第二反射膜，所述出射光通過孔位于與所述入射光通過孔相反的一側(cè)，在所述俯視觀察中，所述出射光通過孔與所述第一反射膜以及所述第二反射膜重疊，
在將所述出射光通過孔的口徑設(shè)為Φo時(shí)，所述光學(xué)濾波器裝置滿足Φo<Φp的關(guān)系。
9.一種光學(xué)模塊，其特征在于，具備：
殼體，具有能使光射入內(nèi)側(cè)的入射光通過孔；
光圈，設(shè)置于所述殼體的外側(cè)，用于限制向所述入射光通過孔射入的光；
干涉濾波器，設(shè)置于所述殼體的內(nèi)側(cè)，具備第一反射膜以及與所述第一反射膜相對的第二反射膜；以及
檢測部，對由所述干涉濾波器提取的光進(jìn)行檢測，
其中，在從膜厚方向觀察所述第一反射膜以及所述第二反射膜的俯視觀察中，所述光圈的開口、所述入射光通過孔、和所述第一反射膜以及所述第二反射膜被設(shè)置為重疊，
所述第一反射膜配置于所述第二反射膜與所述入射光通過孔之間，
在將所述第一反射膜的直徑設(shè)為Φm、將所述入射光通過孔的口徑設(shè)為Φp、將所述光圈的開口直徑設(shè)為Φa時(shí)，所述光學(xué)模塊滿足Φa<Φm<Φp的關(guān)系。
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，具備：
殼體，具有能使光射入內(nèi)側(cè)的入射光通過孔；
光圈，設(shè)置于所述殼體的外側(cè)，用于限制向所述入射光通過孔射入的光；
干涉濾波器，設(shè)置于所述殼體的內(nèi)側(cè)，具備第一反射膜以及與所述第一反射膜相對的第二反射膜；以及
控制部，對所述干涉濾波器進(jìn)行控制，
其中，在從膜厚方向觀察所述第一反射膜以及所述第二反射膜的俯視觀察中，所述光圈的開口、所述入射光通過孔、和所述第一反射膜以及所述第二反射膜被設(shè)置為重疊，
所述第一反射膜配置于所述第二反射膜與所述入射光通過孔之間，
在將所述第一反射膜的直徑設(shè)為Φm、將所述入射光通過孔的口徑設(shè)為Φp、將所述光圈的開口直徑設(shè)為Φa時(shí)，所述電子設(shè)備滿足Φa<Φm<Φp的關(guān)系。
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