[發明專利]基于受激布里淵散射技術在大芯徑光纖中輸出高能量基模激光的方法及裝置

有效

• 申請號: 201410090259.X
• 申請日: 2014-03-13
• 公開（公告）號: CN103825190B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發明（設計）人: 呂志偉;高麒麟;朱成禹
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: H01S3/30
• 分類號: H01S3/30;H01S3/067
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所23109
• 代理人: 張宏威

1.基于受激布里淵散射技術在大芯徑光纖中輸出高能量基模激光的方法，其特征在于，該方法為：

空間激光被分束為泵浦光和種子光；

泵浦光經耦合注入光纖環形器，并通過光纖環形器注入大芯徑光纖；

種子光經耦合注入單模光纖，然后對注入的種子光進行相位調制，產生斯托克斯頻移，形成調制后種子光；

單模光纖和大芯徑光纖中心對準，采用熔接法連接在一起，或熔接后再采用拉錐法進行處理；

調制后種子光從單模光纖進入大芯芯徑光纖，并與泵浦光相遇，在大芯徑光纖中采用受激布里淵散射放大的方法將泵浦光擁有的高能量轉入基模形態的種子光中，經受激布里淵散射后的光束由光纖環形器輸出，獲取了高能量基模激光。

2.根據權利要求1所述基于受激布里淵散射技術在大芯徑光纖中輸出高能量基模激光的方法，其特征在于，大芯徑光纖的纖芯直徑大于或等于100μm。

3.根據權利要求1所述基于受激布里淵散射技術在大芯徑光纖中輸出高能量基模激光的方法，其特征在于，大芯徑光纖為折射率漸變光纖。

4.實現權利要求1所述基于受激布里淵散射技術在大芯徑光纖中輸出高能量基模激光的方法的裝置，其特征在于，它包括光源（1）、分束鏡（2）、第一耦合器（3）、第二耦合器（4）、第一大芯徑光纖（5）、第一單模光纖（6）、光纖環形器（7）、第二大芯徑光纖（8）、第二單模光纖（9）、相位調制器（10）和反射鏡（11）；

光源（1）輸出的空間光束入射至分束鏡（2），經分束鏡（2）形成透射光束和反射光束；

所述透射光束由第一耦合器（3）耦合至第一大芯徑光纖（5）形成泵浦光，第一大芯徑光纖（5）輸出的浦泵光注入光纖環形器（7）的A口，浦泵光從光纖環形器（7）的B口輸出并入射至第二大芯徑光纖（8）中；

所述反射光束入射至反射鏡（11），由反射鏡（11）反射輸出的光束經第二耦合器（4）耦合至第一單模光纖（6）形成種子光，所述種子光經相位調制器（10）調制后輸出，并進入第二單模光纖（9），調制后種子光注入第二大芯徑光纖（8）中；

調制后的種子光與浦泵光相遇，經布里淵散射放大后注入光纖環形器（7）的B口，并由光纖環形器（7）的C口輸出。

5.根據權利要求4所述基于受激布里淵散射技術在大芯徑光纖中輸出高能量基模激光的裝置，其特征在于，光源（1）采用空間激光器。