[發明專利]熒光體、發光裝置及熒光體的制造方法無效
| 申請號: | 201410088682.6 | 申請日: | 2014-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN104059643A | 公開(公告)日: | 2014-09-24 |
| 發明(設計)人: | 福田由美;阿爾貝薩惠子;三石巖 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | C09K11/65 | 分類號: | C09K11/65;H01L33/50 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 肖靖 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 熒光 發光 裝置 制造 方法 | ||
1.一種熒光體,該熒光體通過在250nm~500nm的波長范圍內具有峰值的光的激勵而發射在500nm~600nm的波長范圍內具有峰值的熒光,并且該熒光體由下式(1)表達:
(M1-xCex)2yAlzSi10-zOuNvCw (1)
其中,
M是包含Sr的金屬元素,
x、y、z、u、v和w分別滿足以下的條件:
0<x≤1,
0.8≤y≤1.1,
2≤z≤3.5,
0<u≤1.5,
0.01≤w≤0.1,
13≤u+v+w≤15。
2.根據權利要求1的熒光體,其中,M還包含選自包含Ba、Ca和Mg的組的至少一種元素。
3.根據權利要求1的熒光體,其中,Ba、Ca和Mg的量單獨地為基于M的總量的10at.%或更少。
4.根據權利要求1的熒光體,所述熒光體具有晶格常數從Sr2Al3Si7ON13的晶格常數改變最多±15%的晶體結構。
5.根據權利要求1的熒光體,所述熒光體具有M-N和M-O的化學鍵長度分別從Sr2Al3Si7ON13中的Sr-N和Sr-O的化學鍵長度改變最多±15%的晶體結構。
6.根據權利要求1的熒光體,在根據Bragg-Brendano方法通過Cu-Kα線放射的X射線衍射測量中,在11.1-11.3°、15.0-15.2°、18.25-18.45°、19.75-19.95°、23.0-23.2°、24.85-25.05°、25.55-25.75°、25.95-26.15°、29.3-29.5°、30.9-31.1°、31.6-31.8°、33.0-33.2°、33.6-33.8°、33.95-34.15°、34.35-34.55°、35.2-35.4°、36.05-36.25°、36.5-36.7°、37.2-37.4°、38.95-39.15°、40.45-40.65°、42.8-43.0°、48.3-48.5°、48.75-48.95°、56.4-56.6°、64.45-64.65°、67.55-67.75°和68.85-69.05°的衍射角(2θ)處表現至少10個峰值。
7.一種發光裝置,包括:
發光元件,發射在250nm~500nm的波長范圍內具有峰值的光;和
發光層,包含根據權利要求1所述的熒光體。
8.根據權利要求7的發光裝置,其中,所述發光層還包含綠色發光熒光體和紅色發光熒光體。
9.一種用于制造根據權利要求1所述的熒光體的方法,包括以下的步驟:
混合M材料、Al材料、Si材料以及Ce材料從而制備混合物,其中,所述M材料選自包含M的氮化物和碳化物的組,所述Al材料選自包含Al的氮化物、氧化物和碳化物的組,所述Si材料選自包含Si的氮化物、氧化物和碳化物的組,所述Ce材料選自包含Ce的氧化物、氮化物和碳酸鹽的組;然后,
燒制所述混合物。
10.根據權利要求9的方法,其中,在1500~2000℃的溫度下在5atm或更高的壓力下執行所述燒制的步驟。
11.根據權利要求9的方法,其中,在氮氣氣氛中執行所述燒制的步驟。
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