[發(fā)明專利]一種基于CCD成像的電弧金屬蒸汽濃度測量系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410077434.1 | 申請日: | 2014-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN103868859A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王偉宗;于源;李萌;薛明;王春野 | 申請(專利權(quán))人: | 中國空間技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25;G01J5/20 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 安麗 |
| 地址: | 100194 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 ccd 成像 電弧 金屬 蒸汽 濃度 測量 系統(tǒng) | ||
1.一種基于CCD成像的電弧金屬蒸汽濃度測量系統(tǒng),其特征在于:包括同步觸發(fā)電路、動態(tài)壓力測量模塊、電弧光學(xué)圖像采集處理系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理單元;同步觸發(fā)電路控制外部的電弧發(fā)生器、動態(tài)壓力測量模塊和電弧光學(xué)圖像采集處理模塊、數(shù)據(jù)處理單元同步工作;所述的電弧光學(xué)圖像采集處理系統(tǒng)包括以電弧發(fā)生器為中心,在同一平面基準(zhǔn)內(nèi)相距120°的三路成像光路,每路成像光路包括可調(diào)密度盤、分光裝置、濾光片、CCD;電弧光學(xué)圖像采集處理系統(tǒng)中的三路成像光路同時接收外部電弧發(fā)生器放電發(fā)出的光信號,每一路成像光路中的可調(diào)密度盤對接受的光信號進行動態(tài)衰減,將衰減后的信號經(jīng)分光裝置等性分為三路平行光束,再經(jīng)過各自光路的濾光片后,得到三束不同波長的單色光λ1、單色光λ2、背景光λ3并送至CCD的不同區(qū)域成像,從而獲得由三路平行光束生成的一幅成像光路圖像,其中所述三路平行光束中的濾光片具有不同的特征波長;電弧光學(xué)圖像采集處理系統(tǒng)生成三幅成像光路圖像送至數(shù)據(jù)處理單元;動態(tài)壓力測量模塊測量電弧發(fā)生器內(nèi)部的動態(tài)壓力,并將壓力測量結(jié)果送至數(shù)據(jù)處理單元;數(shù)據(jù)處理單元根據(jù)成像光路圖像和壓力測量結(jié)果,計算獲得電弧內(nèi)部金屬蒸汽的濃度場。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于CCD成像的電弧金屬蒸汽濃度測量系統(tǒng),其特征在于:所述的動態(tài)壓力測量模塊包括壓力傳感器、電荷放大器、壓力信號調(diào)理電路和AD轉(zhuǎn)換電路;壓力傳感器感知電弧發(fā)生器內(nèi)部的動態(tài)壓力變化并轉(zhuǎn)化成電信號,經(jīng)電荷放大器放大后送至壓力信號調(diào)理電路;壓力信號調(diào)理電路對放大后的電信號進行去噪處理、幅值變化處理后送至AD轉(zhuǎn)換電路進行模數(shù)轉(zhuǎn)換后輸出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于CCD成像的電弧金屬蒸汽濃度測量系統(tǒng),其特征在于:所述的數(shù)據(jù)處理單元讀取三幅成像光路圖像,將三幅成像光路圖像像素的色度信息轉(zhuǎn)換為光輻射強度信息,構(gòu)建三個不同特征波長λ1、λ2、λ3下的三維光輻射強度立體場,反衍重建獲得三個不同特征波長下的三維輻射系數(shù)立體場;根據(jù)λ1、λ2兩個不同特征波長下的三維輻射系數(shù)立體場,通過光譜相對強度法,獲得電弧等離子體三維溫度場;數(shù)據(jù)處理單元讀取壓力測量結(jié)果獲得電弧發(fā)生器內(nèi)部的動態(tài)壓力值,即為電弧等離子體壓力;根據(jù)溫度、氣壓下電弧光輻射系數(shù)與金屬蒸汽濃度的單調(diào)依賴關(guān)系f(T0,P0,X0)=ε3/ε1,反向插值獲得電弧內(nèi)部各點金屬蒸汽的濃度X0并構(gòu)成電弧內(nèi)部金屬蒸汽的濃度場;其中T0為電弧等離子體某點溫度,P0為電弧等離子體某點壓力,ε3為背景光λ3下的電弧等離子體內(nèi)某點輻射系數(shù),ε1為單色光λ1下的電弧等離子體內(nèi)某點輻射系數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于CCD成像的電弧金屬蒸汽濃度測量系統(tǒng),其特征在于:所述溫度、氣壓下電弧光輻射系數(shù)與金屬蒸汽濃度的單調(diào)依賴關(guān)系f(T0,P0,X0)=ε3/ε1的具體獲取方法為:根據(jù)金屬蒸汽在低溫情況下的相變,通過吉布斯自由能最小化方法,采用拉格朗日乘子和最速下降牛頓-拉夫遜算法,迭代計算得到某一溫度和壓力狀態(tài)參數(shù)下,含有不同金屬蒸汽濃度的電弧內(nèi)部各種粒子組分構(gòu)成,并根據(jù)粒子的發(fā)射光譜信息計算對應(yīng)濃度下特征波長背景光ε3和特征波長單色光ε1的輻射系數(shù)之比。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
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