[發(fā)明專利]雙引線框架多芯片共同封裝體的制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410073160.9 | 申請(qǐng)日: | 2010-04-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103996628A | 公開(公告)日: | 2014-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉凱;石磊;魯軍;安荷·叭剌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 萬(wàn)國(guó)半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50;H01L21/60 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 吳俊 |
| 地址: | 美國(guó)加利福尼亞*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 引線 框架 芯片 共同 封裝 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)和制造方法,特別涉及一種雙引線框架多芯片共同封裝體及其制造方法。
背景技術(shù)
功率金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體(metal-oxide-semiconductor?field?effect?transistor,簡(jiǎn)稱MOSFET)器件具有高集成密度、高可靠性、極低的靜態(tài)漏電流和不斷改進(jìn)的功率處理能力,被廣泛的應(yīng)用在消費(fèi)電子、計(jì)算機(jī)等領(lǐng)域。
現(xiàn)有技術(shù)中,如圖1所示,在封裝上管金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(HS?MOSFET)2和下管金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(LS?MOSFET)1時(shí),將上管MOSFET2和下管MOSFET1分別設(shè)置在一引線框架芯片座4和芯片座3上,通過引線5分別連接下管MOSFET1和上管MOSFET2、下管MOSFET1的頂部接觸區(qū)與芯片座3以及上管MOSFET2的底部接觸區(qū)與芯片座3。
現(xiàn)有技術(shù)中,如圖2所示,將表面安裝型的電容11設(shè)置在半導(dǎo)體封裝12的表面,以降低寄生電感。
在上述器件的封裝中,通過引線連接芯片,增加了芯片之間的電阻和電感,另外在半導(dǎo)體封裝表面設(shè)置電容器,增加了半導(dǎo)體封裝的尺寸及成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種雙引線框架多芯片共同封裝體及其制造方法,該封裝結(jié)構(gòu)將連接片用于芯片之間的連接及芯片與芯片座之間的連接,降低了芯片之間的電阻和電感,并且在封裝中集成了一個(gè)旁路電容,降低了封裝過程中的寄生電感,提高了整個(gè)器件的能量轉(zhuǎn)換效率,并同時(shí)減小了半導(dǎo)體封裝的尺寸,本發(fā)明的工藝操作簡(jiǎn)單,易操作,制造成本低。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種雙引線框架多芯片共同封裝體,其特點(diǎn)是,包括:
第一引線框架及第二引線框架,所述第一引線框架包括一個(gè)第一芯片座和多個(gè)外部引腳,所述第二引線框架包括一個(gè)第二芯片座和一個(gè)與第二芯片座一體構(gòu)成的立體連接片;
分別具有數(shù)個(gè)頂部接觸區(qū)及一底部接觸區(qū)的第一芯片及第二芯片;所述第一芯片設(shè)置在第一芯片座上,所述第二芯片設(shè)置在第二芯片座上;所述第一芯片的底部接觸區(qū)與第一芯片座電連接,所述第二芯片的底部接觸區(qū)與第二芯片座電連接;
所述立體連接片連接第一芯片的一第一頂部接觸區(qū),使第一芯片與第二芯片座電學(xué)連接,從而使第一芯片的第一頂部接觸區(qū)與第二芯片的底部接觸區(qū)電學(xué)連通。
上述的雙引線框架多芯片共同封裝體,其中,
還包括一個(gè)頂部連接片,所述頂部連接片連接第二芯片的一頂部接觸區(qū)及至少一外部引腳。
上述的雙引線框架多芯片共同封裝體,其中,
所述頂部連接片進(jìn)一步延伸連接第一芯片的一第二頂部接觸區(qū)。
上述的雙引線框架多芯片共同封裝體,其中,
所述多個(gè)芯片還包括具有一頂部接觸區(qū)及一底部接觸區(qū)的第三芯片,所述第三芯片設(shè)置在第一芯片座上,所述第三芯片的底部接觸區(qū)與第一芯片座電連接;所述頂部連接片進(jìn)一步延伸連接第三芯片的頂部接觸區(qū)。
上述的雙引線框架多芯片共同封裝體,其中,
所述第一芯片為上管金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,所述第二芯片為下管金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,所述第三芯片為旁路電容。
一種雙引線框架多芯片共同封裝體,其特點(diǎn)是,包括:
兩個(gè)引線框架,分別為第一引線框架及第二引線框架,所述第一引線框架包括一個(gè)第一芯片座和多個(gè)外部引腳,所述第二引線框架包括一個(gè)第二芯片座;
多個(gè)芯片,所述多個(gè)芯片分別具有頂部接觸區(qū)及底部接觸區(qū);所述多個(gè)芯片進(jìn)一步包括第一芯片、第二芯片及第三芯片;所述第一芯片及第三芯片設(shè)置在第一芯片座上,所述第二芯片設(shè)置在第二芯片座上,所述第一芯片及第三芯片的底部接觸區(qū)分別與第一芯片座電學(xué)連接,所述第二芯片的底部接觸區(qū)與第二芯片座電學(xué)連接,所述第一芯片和第二芯片還分別包括頂部柵接觸區(qū),第一芯片和第二芯片的柵接觸區(qū)分別與第一引線框架的外部引腳連接;
一個(gè)頂部連接片,用于多芯片共同封裝體內(nèi)的連接,所述頂部連接片連接第二芯片的頂部接觸區(qū)及外部引腳,并且所述頂部連接片同時(shí)連接第三芯片的頂部接觸區(qū);
所述第一芯片的頂部接觸區(qū)與所述第二芯片座電學(xué)連接。
上述的雙引線框架多芯片共同封裝體,其中,通過引線連接第一芯片的頂部接觸區(qū)與第二引線框架的內(nèi)部引腳。
上述的雙引線框架多芯片共同封裝體,其中,所述第一芯片和第三芯片集成為一個(gè)芯片設(shè)置在第一引線框架上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





