[發明專利]多放射線產生設備和放射線成像系統

無效

• 申請號: 201410065369.0
• 申請日: 2014-02-26
• 公開（公告）號: CN104000616A
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發明（設計）人: 田村美樹;上田和幸
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03;G01N23/04
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 歐陽帆

1.一種多放射線產生設備，包括：

布置成一行的多個放射線源，

其中每個放射線源包括被配置為發射電子的電子源以及被配置為在接收到從所述電子源發射的電子時產生放射線的靶單元，以及

其中放射線源中的至少一個是用于層析攝影合成成像和非層析攝影合成成像兩者的兩用放射線源，并且其它放射線源是僅僅用于層析攝影合成成像的單用放射線源。

2.根據權利要求1所述的多放射線產生設備，其中，在相同的條件下照射電子時，兩用放射線源的靶單元的電子照射表面被配置為具有比單用放射線源的每個靶單元的電子照射表面的溫度升高更小的溫度升高。

3.根據權利要求2所述的多放射線產生設備，其中兩用放射線源的靶單元具有比單用放射線源的靶單元中的每一個的放熱特性更高的放熱特性。

4.根據權利要求2或3所述的多放射線產生設備，

其中靶單元包括襯底以及被形成在面向電子源那側的襯底一側上的靶層，以及

其中兩用放射線源的靶單元的襯底比單用放射線源的靶單元中的每一個的襯底厚。

5.根據權利要求2或3所述的多放射線產生設備，

其中靶單元包括襯底以及被形成在面向電子源那側的襯底一側上的靶層，以及

其中兩用放射線源的靶單元的襯底具有比單用放射線源的靶單元的襯底中的每一個的直徑更大的直徑。

6.根據權利要求2所述的多放射線產生設備，

其中兩用放射線源的靶單元被相對于電子入射的方向傾斜地布置，以及

其中單用放射線源的靶單元中的每一個被相對于電子入射的方向垂直地布置。

7.根據權利要求1所述的多放射線產生設備，

其中放射線源中的每一個還包括布置在對應的靶單元周圍的屏蔽物，

其中，在電子源的一側，屏蔽物具有電子通過的通路孔，以及

其中，在電子源的相對側，屏蔽物具有允許靶單元產生的放射線發射到預定區域的發射孔。

8.根據權利要求7所述的多放射線產生設備，其中兩用放射線源的屏蔽物在與靶單元的行以及電子入射的方向垂直的方向上比單用放射線源的屏蔽物中的每一個厚。

9.根據權利要求7所述的多放射線產生設備，其中放熱鰭連接到兩用放射線源的屏蔽物。

10.根據權利要求7所述的多放射線產生設備，其中兩用放射線源的屏蔽物的通路孔或者發射孔在其中通路孔或者發射孔與靶單元接觸的位置處具有比單用放射線源的屏蔽物的每個通路孔或者發射孔的直徑更小的直徑。

11.根據權利要求7所述的多放射線產生設備，其中放射線源的屏蔽物被一體化地形成。

12.一種放射線成像系統，包括：

根據權利要求1所述的多放射線產生設備；

放射線檢測設備，被配置為檢測已經從多放射線產生設備發射并且已經經過被攝體的放射線；以及

系統控制設備，被配置為執行放射線產生設備和放射線檢測設備之上的協同控制。

13.根據權利要求12所述的放射線成像系統，其中放射線成像系統具有其中從布置成一行的放射線源順序地發射放射線的層析攝影合成成像模式和其中僅僅從兩用放射線源發射放射線的非層析攝影合成成像模式。

14.根據權利要求13所述的放射線成像系統，其中系統控制設備執行控制使得，在層析攝影合成成像模式中將第一加速電壓施加在每個放射線源的靶單元和電子源之間，并且在非層析攝影合成成像模式中將與第一加速電壓不同的第二加速電壓施加在兩用放射線源的靶單元和電子源之間。