[發明專利]一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201410062665.5
• 申請日: 2014-02-24
• 公開（公告）號: CN103852946B
• 公開（公告）日: 2016-11-30
• 發明（設計）人: 蔡振飛;陳正偉
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術

隨著顯示技術的飛速發展，TFT-LCD（Thin?Film?Transistor?Liquid?Crystal?Display，薄膜晶體管液晶顯示器）作為一種平板顯示裝置，因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對較低等特點，正逐漸成為主流的顯示產品。

TFT-LCD由陣列基板和彩膜基板構成。在相互對盒的陣列基板和彩膜基板之間充入液晶，形成液晶盒，通過控制液晶的偏轉，從而實現對光線強弱的控制，然后通過彩膜基板的濾光作用，實現彩色圖像顯示。通常需要在陣列基板和彩膜基板之間設置多個隔墊物，以支撐液晶盒的盒厚。

現有的陣列基板的制作過程中，需要將金屬薄膜層10（例如柵極金屬層、源漏金屬層等）通過磁控濺射的方式沉積于透明基板100上。具體的，將用于形成金屬薄膜層的多條靶材12如圖1所示，以相互間隔排列的形式進行拼接，然后對拼接好的靶材進行磁控濺射以形成于透明基板100上的金屬薄膜層10，這樣能夠提高靶材的利用率。然而，由于相鄰的兩條靶材之間具有間隔區域120。因此，在磁控濺射的過程中，在該間隔區域120形成于上述透明基板100的金屬薄膜層10的厚度要小于靶材正對區域121形成的金屬薄膜層10的厚度。所以形成的金屬薄膜層10會凹凸不平，這樣一來形成于該金屬薄膜層10表面與隔墊物相接處的薄膜層的表面平整度會降低，從而導致位于陣列基板上的多個隔墊物之間的高度不均一，例如，靶材間隔區域120對應透明基板100上金屬薄膜層10的高度會小于正常值，使得位于其上的隔墊物無法起到支撐作用，進而造成顯示異常等不良現象的產生，嚴重影響產品的質量。

發明內容

本發明的實施例提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置，能夠使得與隔墊物相接觸的薄膜層的厚度均一化。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

本發明實施例的一方面，提供一種陣列基板，包括顯示區域和非顯示區域；所述非顯示區域包括橫縱交叉的柵線和數據線以及薄膜晶體管所在的區域，所述柵線和所述數據線通過對間隔排列的靶材進行磁控濺射形成金屬薄膜層并對所述金屬薄膜層進行圖形化而形成；所述非顯示區域的對應于所述靶材間隔區域的區域中形成有襯墊結構，所述對應所述靶材間隔區域形成的所述金屬薄膜層與所述襯墊結構的厚度之和與對應所述靶材正對區域形成的所述金屬薄膜層的厚度相等。

本發明實施例的另一方面，提供一種顯示裝置，包括如上所述的任意一種陣列基板。

本發明實施例的又一方面，提供一種陣列基板的制作方法，所述陣列基板包括顯示區域和非顯示區域；所述方法包括在所述非顯示區域，對間隔排列的靶材進行磁控濺射形成金屬薄膜層并對所述金屬薄膜層進行圖形化而形成橫縱交叉的柵線和數據線的方法，以及形成薄膜晶體管的方法；其特征在于，所述方法還包括：

在所述非顯示區域內，在對應于所述靶材間隔區域的區域中形成襯墊結構，所述對應所述靶材間隔區域形成的所述金屬薄膜層與所述襯墊結構的厚度之和與對應所述靶材正對區域形成的所述金屬薄膜層的厚度相等。

本發明實施例提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置，該陣列基板包括顯示區域和非顯示區域；該非顯示區域包括橫縱交叉的柵線和數據線以及薄膜晶體管所處的位置。其中，柵線和數據線通過對間隔排列的靶材進行磁控濺射然后進行圖形化工藝而形成。在非顯示區域的對應靶材間隔區域的區域中形成有襯墊結構，對應靶材間隔區域形成的金屬薄膜層與襯墊結構的厚度之和與對應靶材正對區域形成的金屬薄膜層的厚度相等。這樣一來，形成于上述金屬薄膜層的與隔墊物相接觸的薄膜層的厚度能夠均一化，使得位于陣列基板上的每個隔墊物都對液晶盒的盒厚進行支撐，從而保持了盒厚的平衡，提高了產品的質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現有技術提供的一種磁控濺射方法示意圖；

圖2為本發明實施例提供的一種陣列基板的結構示意圖；

圖3為本發明實施例提供的一種襯墊結構的結構示意圖；

圖4為本發明實施例提供的另一種襯墊結構的結構示意圖；

圖5為本發明實施例提供的另一種陣列基板的結構示意圖；