[發明專利]電站間接空氣冷卻器的清洗裝置

無效

• 申請號: 201410057144.0
• 申請日: 2014-02-20
• 公開（公告）號: CN103791768A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 馬洪發;張振洲;劉鋒;韓乃波;謝燕敏;孫震;袁克峰;陳雷
• 申請（專利權）人: 沈陽儀表科學研究院有限公司
• 主分類號: F28G9/00
• 分類號: F28G9/00
• 代理公司: 沈陽科威專利代理有限責任公司 21101
• 代理人: 楊濱

技術領域

本發明涉及電力、環保、能源、煤礦等設備的清洗技術領域，具體地說是一種電站間接空氣冷卻器的清洗裝置。

背景技術

目前，在發電廠得到應用的空氣冷卻系統有：①直接空冷系統(ACC)；②采用表面式凝汽器的間接空冷系統；③采用混合式凝汽器的間接空冷系統(也稱海勒式間接空冷系統)。其中，采用混合式凝汽器的間接空冷系統，主要由噴射式凝汽器和裝有福哥型散熱器的空冷塔構成，系統中的冷卻水進入凝汽器直接與汽輪機乏氣混合并使其冷凝。受熱后的冷卻水絕大部分由循環泵送至空冷塔散熱器，經與空氣對流換熱冷卻后再送至噴射式凝汽器進入下一個循環。

其中，福哥型散熱器（也稱鋁管鋁片散熱器）是海勒式間接空冷系統的主要設備，包括若干垂直于地面的散熱器冷卻柱。兩個相鄰的冷卻柱以60°夾角組成一個冷卻三角，三角形的另外一邊安裝百葉窗，控制進風量，并保護散熱器免受外界花粉、浮塵、昆蟲、飛鳥等因素的干擾，消除運行過程中的安全隱患。不可避免的，長期使用后由于污漬的不斷累積導致冷卻三角的散熱效果降低，為此需要定期清洗。現有的間接空冷機組的清洗采用在豎直桁架上設有豎直噴洗管，在豎直噴洗管（垂直設置）上分布有若干個噴嘴，豎直噴洗管只能在呈冷卻三角的兩組冷卻器翅片的外圍清洗，無法進入冷卻三角清洗，由于相鄰兩組冷卻器翅片的折角處與豎直噴洗管距離約2.5m，而噴嘴水射流的有效靶距僅為0.5m，因此，無法達到理想的清洗效果。為此，需要對現有的清洗裝置進行改進。

發明內容

本發明的目的是提供一種在塔外靠近間接空冷機組位置上設置的電站間接空氣冷卻器的清洗裝置，從根本上解決了現有電站間接空氣冷卻器的清洗裝置清洗成本高、清洗效果差、運行過程易卡滯等問題。其結構設計巧妙，具有結構簡單合理、綜合效率高、運行過程安全穩定、清洗效果好、耗水量低、便于維護等優點。

本發明的目的是這樣實現的：該電站間接空氣冷卻器的清洗裝置包括設置在冷卻器外的導軌上的可沿導軌運動的桁架、驅動桁架的走行機構、設置在桁架上的可沿桁架運動的清洗框架、設置在桁架上的用于驅動清洗框架的牽引機構、設置在清洗框架上的清洗機構，走行機構包括設置在桁架下部的走行電機、設置在桁架底部的由走行電機驅動的下行走輪，清洗框架通過清洗框架導向輪水平限位在桁架上，其技術要點是：所述清洗機構設置在清洗框架的左或/和右側，清洗機構包括若干導桿、若干固定在導桿上的帶有噴嘴的清洗管束、設置在清洗框架上的清洗管束驅動電機，清洗管束驅動電機的輸出端上設有齒輪，導桿上設有與齒輪相嚙合的齒條。

為方便安裝，同時保證桁架的穩定運行，所述導軌包括上導軌和下導軌，桁架與上導軌之間設有桁架上支撐架，桁架與下導軌之間設有桁架下支撐架。優選的，所述下行走輪設置在桁架下支撐架上；桁架上支撐架上設有與上導軌相配合的上行走輪。

為提高清洗框架升降的穩定性，所述牽引機構包括設置在桁架上的牽引電機、設置在桁架上部的牽引導向輪、固定在清洗框架上的牽引塊，牽引電機的輸出端上設有卷筒，卷筒上設有牽引繩，牽引繩與清洗框架相連。

為保證清洗管束進出過程更加平穩，相鄰的清洗管束之間設有清洗管束導輪。

本發明具有的優點及積極的技術效果是：清洗框架通過清洗框架導向輪水平限位在桁架上，清洗機構設置在清洗框架的左或/和右側，清洗機構包括若干導桿、若干固定在導桿上的帶有噴嘴的清洗管束、設置在清洗框架上的清洗管束驅動電機，清洗管束驅動電機的輸出端上設有齒輪，導桿上設有與齒輪相嚙合的齒條。采用塔外垂直于冷卻器表面式清洗，清洗管束在清洗管束驅動電機的驅動下進入百葉窗內，若干清洗管束構成清洗平面與散熱片平面相配合，噴嘴內的水呈扇形噴出，完美地覆蓋整個散熱片，實現最佳清洗效果。清洗管束伸入百葉窗內，可使清洗平面與散熱片平面距離更近，減小了水壓，降低了耗水量。走行機構包括設置在桁架下部的走行電機、設置在桁架底部的由走行電機驅動的下行走輪，桁架沿導軌運行、清洗框架垂直移動的清洗可實現連鎖自動控制，只需一人即可完成全部清洗作業。采用清水作為清洗介質，無須添加其他化學藥劑，廢液處理簡單方便。綜上所述，本發明具有結構簡單合理、綜合效率高、運行過程安全穩定、清洗效果好、耗水量低、便于維護等優點。

附圖說明

以下結合附圖對本發明作進一步描述。

圖1是本發明的使用狀態主視結構示意圖；

圖2是本發明的使用狀態側視結構示意圖；

圖3是清洗框架使用狀態I的俯視結構示意圖；