[發明專利]狹縫噴嘴及使用該狹縫噴嘴的狹縫涂覆設備

在審

• 申請號: 201410053532.1
• 申請日: 2014-02-17
• 公開（公告）號: CN104174547A
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發明（設計）人: 金哲弘;李濬燮;全筆句;黃元炯
• 申請（專利權）人: 三星SDI株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;全成哲

提供了一種狹縫噴嘴及使用該狹縫噴嘴的狹縫涂覆設備。所述狹縫噴嘴包括：第一噴嘴主體部分；以及第二噴嘴主體部分，被安裝為以預定間隔與第一噴嘴主體部分分隔開并且在第一噴嘴主體部分和第二噴嘴主體部分之間設置有分隔構件，從而使涂覆液通過其排出的狹縫形的開口形成在第一噴嘴主體部分和第二噴嘴主體部分之間。在該狹縫噴嘴中，第二噴嘴主體部分包括與第一噴嘴主體部分的一個區域一起形成所述開口的臺部，臺部的中央部分在涂覆液的排出方向上的長度被形成為比臺部的每個端部在涂覆液的排出方向上的長度長。因此，能夠防止排出的涂覆液在狹縫噴嘴的寬度方向上的流速不均勻性，從而使基體材料的涂覆失敗最少化。

本申請要求于2013年5月24日在韓國知識產權局提交的第10-2013-0058854號韓國專利申請的優先權和權益，該韓國專利申請的全部內容通過引用被全文包含于此。

技術領域

本發明的一方面涉及一種狹縫噴嘴及一種使用該狹縫噴嘴的狹縫涂覆設備，更具體地說，涉及一種能夠使涂覆液從其均勻排出的狹縫噴嘴及一種使用該狹縫噴嘴的狹縫涂覆設備。

背景技術

具有各種形式和方法的涂覆設備存在于若干工業中，包括半導體制造領域、液晶顯示器領域、電池領域等。在這些涂覆設備中，通過狹縫形的噴嘴將涂覆液以表面形狀均勻地涂覆的狹縫涂覆設備被用作具有高生產速度和優良品質的涂覆設備。

涂覆液在狹縫噴嘴上的注射在狹縫噴嘴的中央處執行。在這種情況下，在根據狹縫噴嘴的寬度方向上的長度的坐標處，在寬度方向上的涂覆液分別做不同的運動。因此，如果涂覆液在狹縫噴嘴中的流動方向不是無限長的，則涂覆液的排出壓力根據狹縫噴嘴的寬度方向是不相等的，因此，排出的涂覆液的流速沿狹縫噴嘴的寬度方向變得不相等。當涂覆液涂覆在基體材料上時，這種不均勻性引起工藝失敗。

此外，當狹縫噴嘴的寬度方向上的長度加長時，這種不均勻性變得更嚴重。然而，狹縫噴嘴的寬度方向上的長度應該被加長，以增加其上涂覆有涂覆液的基體材料的產量。因此，需要防止排出的涂覆液在寬度方向上的流速不均勻性隨著狹縫噴嘴的寬度方向上的長度的加長而增加。

發明內容

實施例提供一種可以防止排出的涂覆液在狹縫噴嘴的寬度方向上的流速不均勻性的狹縫噴嘴及使用該狹縫噴嘴的狹縫涂覆設備。

根據本發明的一方面，提供一種狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴包括：第一噴嘴主體部分；以及第二噴嘴主體部分，被安裝為以預定間隔與第一噴嘴主體部分分隔開并且在第一噴嘴主體部分和第二噴嘴主體部分之間設置有分隔構件，從而使涂覆液通過其排出的狹縫形的開口形成在第一噴嘴主體部分和第二噴嘴主體部分之間，其中，第二噴嘴主體部分包括與第一噴嘴主體部分的一個區域一起形成所述開口的臺部，臺部的中央部分在涂覆液的排出方向上的長度被形成為比臺部的每個端部在涂覆液的排出方向上的長度長。

臺部的中央部分的所述長度和臺部的每個端部的所述長度之間的差可以是使用下述因素中的至少一個所確定的值：在涂覆液進入到臺部上之前在寬度方向上的壓力差、涂覆液的平均排出流速、所述開口的高度和涂覆液的絕對粘度。

平均排出流速可以是使用下述因素中的至少一個所確定的值：涂覆液的涂覆厚度、所述開口的高度和將涂覆液涂覆于其上的基體材料的移動速度。

在臺部的寬度方向上的壓力差可以是指涂覆液進入到臺部的中央部分上之前的壓力和涂覆液進入到臺部的每個端部上之前的壓力之間的差。

在臺部的寬度方向上的壓力差可以是使用下述因素所確定的值：臺部的參考寬度、根據參考寬度預先計算出的在寬度方向上的壓力差和臺部的在寬度方向上的長度。

第二噴嘴主體部分還可以包括入口，涂覆液通過所述入口流到第二噴嘴主體部分中。

第二噴嘴主體部分可以包括臨時儲存涂覆液并形成在臺部和所述入口之間的空腔。