[發明專利]勻氣結構及等離子體系統

在審

• 申請號: 201410032672.0
• 申請日: 2014-01-23
• 公開（公告）號: CN104810238A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 李廣
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01J37/32
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 陳振

1.一種勻氣結構，其特征在于，包括勻氣板與進氣板；

所述勻氣板上設置通孔；

所述進氣板覆蓋在所述勻氣板的通孔上，所述進氣板上設置噴氣孔。

2.根據權利要求1所述的勻氣結構，其特征在于，所述通孔的尺寸和形狀與所述進氣板的尺寸和形狀相匹配；

所述進氣板活動安裝于所述勻氣板的通孔內。

3.根據權利要求1所述的勻氣結構，其特征在于，所述通孔的數量為多個。

4.根據權利要求1所述的勻氣結構，其特征在于，所述噴氣孔的數量為多個。

5.一種等離子體系統，包括腔體、介質窗與噴嘴，其特征在于，還包括權利要求1至4任一項所述的勻氣結構；

所述介質窗置于所述腔體的開口上；

所述介質窗的中部設置安裝孔，所述噴嘴插入所述安裝孔中；

所述勻氣板置于所述噴嘴的下方，并安裝于所述介質窗上；

氣體從所述噴嘴中流入，經由所述通孔與所述噴氣孔位置對應的重疊部分，通入所述腔體內。

6.根據權利要求5所述的等離子體系統，其特征在于，在所述介質窗靠近所述腔體的端面的中部設置凹槽；

所述安裝孔位于所述凹槽的底部；所述勻氣板內嵌于所述凹槽內；

所述勻氣板與所述凹槽的底部之間具有預設的距離。

7.根據權利要求5所述的等離子體系統，其特征在于，所述介質窗靠近所述腔體的端面為平面；

所述勻氣板為槽形，所述勻氣板的槽形開口朝向所述介質窗。

8.根據權利要求6或7所述的等離子體系統，其特征在于，所述勻氣板活動安裝于所述介質窗上；

所述勻氣板與所述介質窗之間設置密封膠圈。

9.根據權利要求5所述的等離子體系統，其特征在于，所述噴氣孔的形狀為圓形、橢圓形、菱形或方形。

10.根據權利要求5所述的等離子體系統，其特征在于，還包括盲板；

所述盲板的數量與所述進氣板的數量之和等于所述通孔的數量；

當多個所述通孔中的部分所述通孔上未對應覆蓋所述進氣板時，所述盲板覆蓋在未覆蓋所述進氣板的所述通孔上。

11.根據權利要求6或7所述的等離子體系統，其特征在于，所述進氣板通過緊固件安裝于所述勻氣板上。

12.根據權利要求5所述的等離子體系統，其特征在于，所述勻氣板、所述進氣板的材料與所述介質窗相同。

13.根據權利要求12所述的等離子體系統，其特征在于，所述勻氣板、所述進氣板與所述介質窗的材料為石英。