[發(fā)明專利]一種具有五靶頭的磁控共濺射設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410020952.X
• 申請日: 2014-01-17
• 公開（公告）號: CN103849843A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊曉陽;陳伯良;李向陽;賈嘉
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種具有五靶頭的磁控共濺射設(shè)備，包括腔體，在腔體內(nèi)設(shè)置的三個(gè)濺射靶、基片臺、基片臺支架和基片臺擋板，其特征在于：

所述的三個(gè)濺射靶為兩個(gè)單靶頭濺射靶和一個(gè)三靶頭濺射靶，三個(gè)濺射靶共聚焦于基片臺的中心；

所述的兩個(gè)單靶頭濺射靶與一個(gè)三靶頭濺射靶的靶材直徑為2英寸，兩個(gè)單靶頭濺射靶方向與靶管之間的夾角為20°－23°；每個(gè)單靶頭濺射靶設(shè)有用于調(diào)整濺射焦點(diǎn)在基片臺中心的波紋管、鉸鏈與插銷；各個(gè)濺射靶靶頭中心與所述基片臺中心距離為10－20cm；兩個(gè)單靶頭濺射靶與三靶頭濺射靶和所述的腔體頂蓋中心在水平方向上的夾角為130°－135°；三靶頭濺射靶的旋轉(zhuǎn)軸與所述腔體頂蓋法線在垂直方向上夾角為15°－20°，三靶頭濺射靶相對于靶中心之間夾角為120°。